[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 rh*sbZ68>E  
da!P0x9p  
ENVk{QE!  
U&Wwyu:4i  
该用例展示了… CTa#Q,  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： B5%n(,Lx  
倾斜光栅介质 !%(h2]MQ  
体光栅介质 >4` dy  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ^ <`(lyph  
Ga>uFb}W~  
=<@2#E)  
{=2DqkTD  
光栅工具箱初始化 #FOqP!p.E  
38ES($  
CbBSFKM  
 初始化 = {'pUU  
开始-> W<ZK,kv  
光栅-> .0 )Y  
通用光栅光路图 _9H*agRe  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 /&#XhrT  
光栅结构设置 9I7\D8r  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 :,12")N  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 lH^^77"4Qo  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 R:-JkV>e:  
hY5WJ;  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 N{SQ(%V  
@:0ddb71  
堆栈编辑器 4BYE1fUzd  
s.Y4pWd5@  
%_-zWVJ  
Cb t{H}I3  
堆栈编辑器 )4U>!KrY  
WF&[HKOy/  
gbeghLP[?  
涂层倾斜光栅介质 r~-.nb"P  
v44}%$  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 V"o7jsFH6n  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 hVT~~n`Rj  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 ]r!>{  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） #o/H~Iv  
#ge)2  
6Tw#^;q-  
'TC/vnM  
涂层倾斜光栅介质 %D$,;{ew  
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P"  
g[ 0<m#"  
1% F?B-k  
涂层倾斜光栅介质 jCAC `  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 >SN|?|2U/  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 4to% `)]  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Sd/?&  
.#u_#=g?  
L9Z;:``p  
OdWou|Gz  
涂层倾斜光栅介质参数 (iJ1 ;x  
heaRX4  
Z@8vL  
R3)57OyV  
涂层倾斜光栅介质参数 e~ aqaY~}  
XoLJL]+?  
E5el?=,i  
u~ ~R9.
 
高级选项&信息 EV#MQM  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 Xtz-\v#0o'  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 KIA 2"KbjG  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ML-)I&>tT  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 hmx= 35  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 &R|/t:DN  
GLn{s  
F/m^?{==~*  
#j#_cImE  
高级选项&信息
IW8+_#d  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ri`R<l8  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 +_v$!@L8  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 x:vu'A  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 <2!v(EkI  
lf>*Y.!@me  
GU't%
[  
]sz
3]"2  
高级选项&信息 <PPNhf8  
EM7+VO(  
,*4p?|A  
Z3k(P  
高级选项&信息 O3N0YGhJ  
aK,z}l(N  
VL[R(a6c <  
;fw1
 
体光栅介质 x}U8zt)yD3  
*5zrZ]^  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 !zPG?q]3  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Lb{e,JH  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 EFpIp4_Y  
-~eJn'W  
hlu:=<B  
pA{ 5V9
 
体光栅介质参数 vA$o~?a]/  
2([2Pb3<"  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Cv$ S
Jc  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 TI9UXa:V\  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Q0Nyqhvi  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 8Qh#)hiW!  
TF2>
4 p  
DC1'Kyk  
5L:1A2Z?c  
体光栅介质参数 zkTp`>9R  
#j@71]GI  
/h v4x9  
h25G/`  
高级选项&信息 aNyvNEV3C  
kc/{[ME  
*. 3N=EO  
0y<wvLv2C  
高级选项&信息 C^QtSha
 
`/Nm 2K  
J$~<V IX  
[1Ydo`  
在探测器位置处的备注 USN8N (  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 7_2k
DDW0  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 jjJ2>3avY  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 fN"(mW>!  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） SXao|{?O  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Mv c`)_Md  
64-#}3zL  
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3Z-)m