[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 t82Bp[t  
MG8-1M  
np=m~k  
cn<9!2a  
该用例展示了… /%=#*/E7  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 36J)O-Ti  
倾斜光栅介质 %- %/3  
体光栅介质 +ywWQ|V  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 6jCg7Su]  
EIEwrC  
x[WT)  
|g8 ]WFc  
光栅工具箱初始化 [DGq{(
O  
b2U[W#  
*fSa8CV  
 初始化 N%y%)MI8  
开始-> w V;y]'  
光栅-> 6XFO@c}d  
通用光栅光路图 FE M_7M  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 $N,9e  
光栅结构设置 g0g/<Tv[  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 pRMM1&H  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 tSYe
Z~  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 %m+ZrH(  
S_ nTp)  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 5:iril  
3AWB Y.  
堆栈编辑器 *eUL1m8Y  
)byQ=-<1  
{sX*SbJt  
m6lNZb]  
堆栈编辑器 d[TcA2nF
 
KC}B\~ +  

r)+dK}xl  
涂层倾斜光栅介质 V X211U.Q  
5wGyM10  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 yQou8
P=%  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 -BEPpwb<g  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 "_?^uymw  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） $PrzJc  
tG%R_$*  
J3$`bK6F6  
KxJJ?WyM  
涂层倾斜光栅介质 \+cQiN b@  
em>CSBx  
tvFJ^5  
>V;<K?5B`W  
涂层倾斜光栅介质 ;`F0 %0d  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 <U1uuOt  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 [K"v)B'  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 la
FkOQI  
zQ)[re)  
/f0_mi,bD  
jg%D G2  
涂层倾斜光栅介质参数 &1w,;45  
1$Eiv8xd  
b[*di{?-  
<JKPtF2b  
涂层倾斜光栅介质参数 U(J?Q  
ZO}V}3  
55,vmDd  
72v 9S T  
高级选项&信息 Y~Jq!  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 Q{$2D&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 `P# h?tZ  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 c=@=lGgo  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 8Oc*<^{#  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 F." L{g  
:+-s7'!4  
%mI`mpf  
q=[0`--cd  
高级选项&信息 $1?YVA7  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 E)Hp.  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 kkd<CEz2IM  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 j?.VJ^Ff/u  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 y<;#*wB  
lJU[9)Q_  
!).D  
V}aXS;(r%  
高级选项&信息 i<@|+*>M  
^8fO3<Jg  
re^1fv  
9I pjY~or  
高级选项&信息 kB :")$  
-><?q t  
DrB=  
Z~]17{x0  
体光栅介质 RS$:]hxd>_  
,:;_j<g
`e  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 gbSZ- ej  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 x$A5Ved  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 HPt"  
Xw![}L>  
!5{t1 oJ  
{ >4exyu6  
体光栅介质参数 *[ A%tj%  
'zpj_QM  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ggbew6L$Z  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 T4Zp5m")  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 "lUw{3  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ? ZN8Ku  
,AM6E63  
*;4r|#LG  
*8MU,6  
体光栅介质参数 M6g!bK2l  
Dj %jrtT  
dIK!xOStA  
@AWKEo<7.I  
高级选项&信息 H!vvdp?Z  
B8C"i%8V)  
#V~r@,  

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高级选项&信息 '2#O{  
/Nxy?g|,  
sLB{R#Pt  
Q=>@:1=  
在探测器位置处的备注 O5e9vQH  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 JLs7[W)O  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 FK+jfr [  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 O </<  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） YSeXCJ:Iy  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 cMtkdIO  
+[D=2&tmk  
x{IOn;>R