[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 4<S=KFT_  
p&lT! 5P!A  
N 8pzs"
 
X8 x:/]/0  
该用例展示了… **~1`_7~*  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： \^Z DH  
倾斜光栅介质 8.tp#x,A  
体光栅介质 [W8?ww%qT  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 |Li9Y"5  
Bi`m+ob  
xF`O ehVA  
c{\x<AwO  
光栅工具箱初始化 a9p6[qOcd  
3|vZ`}  
WjF#YW\  
 初始化 zxy/V^mu  
开始-> SV
i{B*  
光栅-> wmaj[e,h  
通用光栅光路图 T-.Bof(?w  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 |K'7BK_^J  
光栅结构设置 o(Q='kK  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 !UX7R\qu|  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 +5ue)`  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 SAUG+{Uq  
F=V_ACU  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 m8z414o  
[OwrIL  
堆栈编辑器 T#=&oy7  
`YK%I8  
$m0-IyXcv  
M6
*8}\  
堆栈编辑器 D
|"^ :Gi  
eS;W>d  
Wf9K+my  
涂层倾斜光栅介质 v$EgVcK  
z{G@t0q  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 =>Dw,+"  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 xwZ7I  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 (d}z>?L  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 'Q4V(.  
jrm L>0NZ  
@^K_>s9B  
Yf[GpSej  
涂层倾斜光栅介质 br7_P1ep  
ZsL-vlv  
|3uE"\nfA  
'-KrneZ!  
涂层倾斜光栅介质 k+As#7V  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 )jaNFJ 3  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 \t+q1S1  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 9|&%"~6'  
TDj
jaO  
P:
tl)ob  
uJ>_ 2  
涂层倾斜光栅介质参数 f*GdHUZ*  
q@&.)sLPgO  
6)D
p2  
q)KLf\  
涂层倾斜光栅介质参数 I DtGtkF  
x\!Uk!fM  
F ][QH\N  
CsW*E,|xyP  
高级选项&信息 3&vUR(10  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ]2'{
W]m  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 mp+lN:  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 2=ZZR8v  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 AHtLkfr(r  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 4f{(Scg  
$XO#qOW  
Tq=OYJq5U  
B;mt11M  
高级选项&信息 Q.]RYv}\  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 (vqI@fB';u  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 
"N4rh<<  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 Bi|XdS$G  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 %b(non*  
~R
\Z&oQ  
nolLeRE1  
Xv1mjHZCC  
高级选项&信息 (>gAnebN L  
wa}\bNKQk  
,c\3b)ax  
l~9P4 ,  
高级选项&信息 7Yrp#u1!  
3gzcpFNqX  
e.:SBXZ  
_N&]w*ce  
体光栅介质 , ,=7deR  
_LUTIqlvi  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 +r 2\v  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 auP6\kpMe  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 h%T$m_  
t/9,JG  
V`MV_zA2  
#aV2+`d  
体光栅介质参数 a;$'A[hq  
MGzuQrl{H  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 [$b\#{shtP  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 y8.(filNB  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 BXf.^s{H  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） :Sj r  
ZHku3)V=o  
=Nj58l  
'/"xMpN4  
体光栅介质参数 NhDM h8=$^  
l*Iy:j(B  
 ^?3e?Q?  

#FfUkV  
高级选项&信息 P_f>a?OL:  
@94_'i7\  
0Tm"Zh?B|  
u*NU MT2  
高级选项&信息 5Se S^kJC  
!Y3 *\  
ped3}i+|]  
8I'Am"bc\  
在探测器位置处的备注 75pz' Cb  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 *?#t (Y[  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 .RNr^*AQ  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ;uC +5g`  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） = yH#Iil  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 +AT!IZrB2i  
!y>MchNv  
(HUGgX"=