[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 -<e_^  
+"|TPKas  
"{c@}~  
Ylgr]?Db*  
该用例展示了… VZ7E#z+nM#  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： #F6M<V'  
倾斜光栅介质 S>Gb Jt(]  
体光栅介质 zz8NBO  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ;wZplVB7y  
 @l&{ j  
=Q6JXp  
42:,*4t(  
光栅工具箱初始化 Q9Go}}n  
7ZUS  
1O1MB&5%  
 初始化 =Ew77  
开始-> JIf.d($ ~:  
光栅-> Z!4
B=?(  
通用光栅光路图 \VypkbE+  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 \FnR'ne  
光栅结构设置 1DN  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 1bjWWNzQA  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 NL'(/|)  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 4E$d"D5]>p  
`1#Z9&bO  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 Hr \vu`p$  
e488}h6#m  
堆栈编辑器 $2a_!/  
&y-z[GR[{  
V|/N-3M  
WE+Szg(4x  
堆栈编辑器 $^YHyfh  
*o<|^,R  
N,*'")k9  
涂层倾斜光栅介质 4.>y[_vu  
rmdg~  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 &<cP{aBa  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ^,J>=>,1\  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 lXD=uRCI  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） hI*6f3Vn(n  
ET%F+  
FS*J8)  
5D mSgP:  
涂层倾斜光栅介质 KbH|'/w  
qV-1aaA  
gm1RQ^n,@.  
dki3(  
涂层倾斜光栅介质 kZfj"+p_S  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 &M=15 uCK  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 4Vd[cRh2  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 HaRx(p0  
>A}ra^gU  
KXBTJ&  
Rk{vz|  
涂层倾斜光栅介质参数 q3|SZoN  
Ym$`EN  
z$VVt?K  
V=Z%y$1Bc  
涂层倾斜光栅介质参数 tv;?W=&P  
\[/}Cy  
HaF&ooI5+  
w*u.z(:a`  
高级选项&信息 0QEcJ]Qb8  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 N1U.1~U  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 INRRA  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 v2YU2-X[  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 V2g"5nYT  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 |{rhks~  
@}'?o_/C  
]
puDqu5!  
t{Ks}9
B  
高级选项&信息 d~T@fa  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 -1ci.4F&  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 _&]Gw, ~/i  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 P75@Yu(  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 %-|$7?~  
_
9S"rH[  
TnuA uui*  
"M,H
m!j  
高级选项&信息
Ol;"}3*Z*  
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~b[5}_L=>  
高级选项&信息 kAW2vh  
Ze?H  
%xC}#RDf  
zXe]P(p<  
体光栅介质 hl,x|.f}4Y  
vI(CX]o  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 sjHcq5#U!  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 :2~2j-m  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 O_*tDq,e  
raM{!T:  
FWLLbL5t  
^Jc|d,u;s  
体光栅介质参数 ^vI`#}?  
On,z#A  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 pQ8f$I#v  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ,X\qlT5C  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 |}d+BD  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） )t,efg  
NQN?CBFQ  
]oKHS$W9  
C`8.8  
体光栅介质参数 _A=i2?g  
6s$h _$[X  
j<h0`v  
D% 2S!  
高级选项&信息 Y{8}z ZD  
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vR  
\WZSY||C|_  
p)~EG=p  
高级选项&信息 PE6ZzxR|U<  
8(H!iKHe  
Qn/6gRLj  
YIHGXi<"n  
在探测器位置处的备注 \{o<-S;h  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 :]8!G- Z  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 O#)YbaE  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 eqyUI|e  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） )ZfbM|  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 QL-E4]  
)OFf nKh  
T~d_?UAw$