[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 _YRFet[,m  
?d*z8w  
_O?`@g?i  
GblA
9F7  
该用例展示了… "69s)~  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： J4hL_i
CQ  
倾斜光栅介质 KM,\  
体光栅介质 !t"4!3  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 y RqL9t  
#<fRE"v:Q  
Lj({[H7D!  
cZ,b?I"Q%  
光栅工具箱初始化 !
|(-=2`  
$ Gf(38[w  
2Ah#<k-gC;  
 初始化 &C_j\7Dq  
开始-> 3Tcms/n  
光栅-> FaAC&F@u  
通用光栅光路图 phXGnm  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 +
Ze}
B*0  
光栅结构设置 : $1?i)  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 G[PtkPSJ  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 L(6d&t'|-R  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 z(ONv#}p  
=jN.1}  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 .^`{1%  
T=DbBy0-  
堆栈编辑器 fgTg7 m  
~ah~cwmpS  
LENq_@$  
u[;\y|75  
堆栈编辑器 +fB5w?Rg  
;fTKfa  
c^xIm'eob  
涂层倾斜光栅介质 LVM%"sd?  
BKCiIfkZ  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 s[>,X#7 y  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 [\eeDa  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 8 /]S^'>  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） +HpA:]#Y  
{lzWrUGO  
EU 6oQ  
0],r0  
涂层倾斜光栅介质  4\N;2N  
Pbn*
_/H  
/{J4:N'B>  
u/
0h$l  
涂层倾斜光栅介质 g}oi!f$|  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 tKuwpT1Qc  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 e)k9dOR  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 O/(`S<iip  
R%WCH?B<}  
cl3K<'D  
3ZPWze6  
涂层倾斜光栅介质参数 7aRi5  
_.Nbt(mz  
ys^oG$lq  
6Pnjmw.HV  
涂层倾斜光栅介质参数 gs[uD5oo<  
k"%~"9  
Ta0|+IYk<  
,-LwtePJ0  
高级选项&信息 (,\+tr8r8  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 7nTeP(M%  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 O63<AY@  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 qr^3R&z!}  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 :r,pqnH_  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ua$GNm  
f}ji?p  
d"mkL-  
pj{`'; :g  
高级选项&信息 A`$%SVgFV^  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 lv<*7BCp  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Zn+.
;o)E<  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 *%NT~C q  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 y2dCEmhY  
2;`1h[,-^  
=:Fc;n>c<K  
7IH@oMvE  
高级选项&信息 6<SAa#@ey  
xh,qNnGGi  
CyFrb`%  
<z&/L/bl"  
高级选项&信息 t#})Awy^R  
]@c+]{  
#U4F0BdA  
r'r%w#=`t  
体光栅介质 BO;tCEV?  
nwe*BVp  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 (zYtNLoFx  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 [A~xy'T  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 %D34/=(X  
S(lO(gY  
9';JXf$  
ItVWO:x&v  
体光栅介质参数 'R
R~7h  
Id'-&tYG  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 W]1)zO  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 . B9iLI  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Jb@V}Ul$  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） %QGC8Tz  
,j{,h_Op  
hGe/;@
%  
J.b9F:&}  
体光栅介质参数 AaOuL,l  
)gIKH{JYL  
Ad8n<zt|  
=F~S?y  
高级选项&信息 S(I{NL}=$  
)3}9K ^jS  
HY*Kb+[  
"Mn6U-  
高级选项&信息 u@UMP@"#  
kk@fL  
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mbxZL<ua  
在探测器位置处的备注 9gDkTYkj  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 6+|do+0Icg  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的  :D6 ON"6  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 _Xc8Yg }`  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） p!7FpxZY  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 OJuG~euy  
Smn;(K  
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