[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 @x}"aJgl  
-r={P_E6  
T+<.KvO-  
"B_3<RSL  
该用例展示了… V95o(c.p  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： nF,F#V8l  
倾斜光栅介质 Tnp P'  
体光栅介质 Y_JQPup  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 e7RgA1  
c1yRy|  
J-v1"7[2GC  
$a M5jH<  
光栅工具箱初始化 X8$i*#D  
B.q/}\ ?(  

<q'l7S  
 初始化 4dX{an]Cz  
开始-> /;*_[g5*i  
光栅-> ,CfslhO{j  
通用光栅光路图 k QuEG5n.-  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ^+_rv  
光栅结构设置 ,vR?iNd:q[  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 e&}W#  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 cFUD$mp  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 7IX8ck[D  
O3} JOv_  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 0MWW( ;  
$DL}jH^S  
堆栈编辑器 } oPO`  
+>Wo:kp3  
s1:Wrz?4  
pU$k{^'UK  
堆栈编辑器 &93{>caf+  
*F\wWg'!B  
_U s"  
涂层倾斜光栅介质 DrK]U}3fh"  
Z0,jg)sA4  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 x-BU$bx5  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Mog>W&U  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 Q|'f3\  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） +\eJxyO  
v e&d"8+]  
D:z'`v0j  
^A$=6=CX  
涂层倾斜光栅介质 {^N,=m\  
dli(ckr  
 %?ElC  
G4* LO  
涂层倾斜光栅介质 pbH!u+DF  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 b] 5weS-<  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 h `Lr5)B'  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 3s6obw$ki  
lvW T  
~gDYb#p  
cOVj @z  
涂层倾斜光栅介质参数 g)Lf^  
mY"7/dw<v  
EXDDUqZ5\  
i2=- su  
涂层倾斜光栅介质参数 %'
Cj~An  
[:8\F#KW  
z`{sD]  
={g)[:(C.  
高级选项&信息 >mb}~wx`  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 F>fCp  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 -xn-Af!v  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 i|eX X)$  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 4MgN
  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 dY8 H2;  
r w?wi}}gn  
R(1:I@<?E  
c]6b|mHT  
高级选项&信息 I\l&'Q^0@  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 :""HyjY!  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Qit&cnO
 
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 *u},(4Qf  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 'OY4Q'Z  
_*mn4n=  
hb`9Vn\-E  
|E8sw a  
高级选项&信息 %2QGbnt_*  
m Q2i$ 0u  
(xfc_h*xA  
]Lv

P)0=  
高级选项&信息 6.@.k  
20c5U%  
"qmSwdM  
;K<VT\
 
体光栅介质 NI?O  
b}! cEJY  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 1Lb)S@Q`*R  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 &~:EmLgv  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 X=QX9Ux?^  
`OW'AS |  
be+-p  
T`#nn|  
体光栅介质参数 N:`_Vl  
Phn^0 iF
 
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 MJ}{Q1|*  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 }U}zS@kI  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 J!C \R
5\  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） RY;V@\pRY+  
iv*RE9?^  
LUQ.=:mBR  
8"h;+;  
体光栅介质参数 V(ELrjB0  
7y Cf3  
SeHrj&5U  
+`d92Tz  
高级选项&信息 Oo|JIr7i  
A$2 ;Bf  
K|%Am4  
5{=+
S]  
高级选项&信息 ffP]U4  
RP~nLh3=\  
6wp1jN  
8ZtJvk`  
在探测器位置处的备注
6,q0F*q  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 OY1bFIE  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 v!I z&M:z  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 o*K7(yUL4  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ?`+VWa[,e  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 -6)nQNj|  
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