[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 H>B&|BO_[  
es&vMY  
;J2zp*|  
q):5JXql~  
该用例展示了… [^e%@TV>d  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： kep/+J-u  
倾斜光栅介质 dCk3;XU  
体光栅介质 FZ,#0ZYJGP  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 VAf1" )pC  
R$TB1w9]  
iQ fJ  
( _)jkI \  
光栅工具箱初始化 $5<#n@  
@jSYB+D  
R:k5QD9/&p  
 初始化 DYxCQ D  
开始-> Z}l3l`h!  
光栅-> OFv%B/O  
通用光栅光路图 vchm"p?9)  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 <_tT<5'[$u  
光栅结构设置 \6<=$vD  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 YSh+pr  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 W$OG(m!W>  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 L3--r  
fM63+9I)\  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 !&/{E [  
Q[pV!CH  
堆栈编辑器 /ZPyN<@  
o.G!7  
`-l6S  
DV-;4AxxRq  
堆栈编辑器 lfz2~Si5A  
-[!P!d=  
O8u j`G 9  
涂层倾斜光栅介质 zN@} #Hk  
.#Z%1U%P.  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 %$Z7x\_  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 .5,(_p^  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 A1#%`^W9  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） MLWM&cFG
 
>wBJy4:  
{(wHPzq  
"4H +!r}  
涂层倾斜光栅介质 j|%HIF25  
!l 1fIc  
5nO% Ke=  
M:3h e  
涂层倾斜光栅介质 xJZ>uTN  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 xAe~]k_D  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 b7tOo7aH)  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 (egzH?  
M9@ri^x  
u1PaHgi$  
K7W6ZH9;  
涂层倾斜光栅介质参数 okv1K  
:8+Nid)  
xs:n\N  
c8
>hcV  
涂层倾斜光栅介质参数 q51Uf_\/  
nwaxz>;  
O1*NzY0Y%-  
S.q].a  
高级选项&信息 _DNHc*  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 G\r?f&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 +g]yA3  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 mPP`xL?T  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅
zs*
L~_K  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 yH*6@P4:0=  
q]N:Tpm9  
C[Dav&=^F  
,NVsn  
高级选项&信息 q^L<X)  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 B0WJ/)rK<  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 x61U[/r  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 hq/k*;  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 e=;AfK  
]Ww?QhJ  
H
4!+q:<  
OP|8Sk6 r  
高级选项&信息 ~Oq +IA~9  
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Yv.=cd  
g9WGkHF  
1,~SS  
高级选项&信息 /<8N\_wh  
QZhjb
  
jDN ]3Y`  
k{$ ao  
体光栅介质 D<X.\})Md  
YxinE`u~  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 k`p74MWu  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 BC;:  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 e$uiJNS2  
@L:>!<  
JA_BKA  
SdwS= (e6  
体光栅介质参数 ^e>Wo7r  
U Gpu\TB  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 =)` p_W  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 n?urE-
_  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 fb:j%1WF  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ?8mlZ X9C  
WJ9cZL  
5W@jfh)  
y&=ALx@  
体光栅介质参数  g}U3y'  
d@G}~&.|  
)Cw`"n  
|xvy')(b  
高级选项&信息 W$Yc'E ;  
PeE/iZ.  
~w;]c_{.b  
uH;-z_Wpn!  
高级选项&信息 _:B1_rz7,  
u}|%@=xn  
vuFBET,  
3QOUU,Dt$  
在探测器位置处的备注 AVU>+[.=%c  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ([VV%ovZ  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 N9<Ujom  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 +/;*|  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） "A)("  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ?}Lg)EFH  
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