[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 Y }VJ4!%U
 
A-4;$ QSm  
lGYW[0dy  
O MQ?*^eA
 
该用例展示了… .\$A7DD+A  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： /A0_#g:2*#  
倾斜光栅介质 M2c
Gr  
体光栅介质 Nxt:U{`T'  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 )e0kr46  
bEcN_7  
Mu/(Xp62  
L3\#ufytb  
光栅工具箱初始化 npzp/mcIe)  
1#3|PA#>  
')q4d0B`"  
 初始化 \ejHM}w3,  
开始-> 3\}u#/Vb  
光栅-> A^).i_&#  
通用光栅光路图 _(g0$vRP~  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 v*Gd=\88  
光栅结构设置 F&!vtlV)  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 yC$m(Y12FN  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 FW8Zpr!u  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 tx d0S!  
~3M4F^  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 1LS1 ZY  
X7-*`NI^  
堆栈编辑器 "[7-1}l  
99*k&mb  
}.045 Wuu  
`,SL\\%u  
堆栈编辑器 T5T%[Gv  
#%QHb,lhl  
|Io:D:  
涂层倾斜光栅介质 N4,oO H~  
n
xhlTf>3  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 t<fah3hl  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 !y XGAg,  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 P6kDtUXF  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 5FJLDT2Lg  
Mrgj*|  
(/$-2.@  
E0RqY3  
涂层倾斜光栅介质 KE"6I  
)rP,+B?W  
^BLO}9A{P  
`Gv\"|Gn  
涂层倾斜光栅介质 34Gu @"  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ;MNUT,U  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 6oLOA}q   
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ynM:]*~K  
\h3HaNC  
})<u~r  
F8<G9#%s\  
涂层倾斜光栅介质参数 k%gj  
v#{Nh8n  
[ x+-N7  
~vt*%GN3  
涂层倾斜光栅介质参数 >vo 6X]p~  
&4ev
h<z  
}v}F8}4  
ZqrS]i@$  
高级选项&信息 v@Eb[7Kq/1  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 PcA^ jBgGl  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 @2. :fK  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 -h7ssf'u[  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 ^@8XJ[C,_  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 L&s~j/pR  
5ZkR3/h e  
V  H`_  
\Y"S4<"R  
高级选项&信息 @&m]:GR  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 @` Pn<_L  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 )jl@hnA  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 J'|[-D-a  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 `AE6s.p?  

E8Kk)7  
;6R9k]5P%  
r=3`Eb"t  
高级选项&信息 @mZK[*Ak<*  
7#+Ih-&EQ  
VRY(@# q  
3<<wHK;)  
高级选项&信息 |DW^bv  
O,),0zcYF  
`^{G`es  
VtzZ1/JE  
体光栅介质 ]t!v`TH  
>WZ%Pv*  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 0vLx={i  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ^_v94!a9  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 i_m&qy<v  
r6\g#}  
<w}i  
xib}E[-l#  
体光栅介质参数 !]s=9(O  
mY"Dw^)  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Tx&H1  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 MHWc~@R  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 8*&-u +@%  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） fhZwYx&t  
L|APXy]>  
W (TTsnnx  
6[XaIco=C  
体光栅介质参数 &u|t{C#0  
:|k!hG  
>DY/CcG\P  
wT+60X'  
高级选项&信息 Mfz(%F|<  
V9<E`C  
Z\C"/j<y  
0P$19TN  
高级选项&信息 z|AknEE,  
_3wJ;cn.  
\4$Nx/@Q}  
TuCHD~rb  
在探测器位置处的备注 _6.@^\;  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 o|n;{zT"  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 BYB9M  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 R-n%3oh  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 1G`5FU  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 sR PQr?  
Rq(+zL(f  
5C*Zb3VG4