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mtHz6+ 内容简介 >lmL Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 k Dt)S$N4n 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 DG=Ap:sl*$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 o=QF>\\ 8B/9{8 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Gu).*cU 目录 [B`P]}gL: Preface 1 S+Yg!RrNqj 内容简介 2 sIsu >eL 目录 i .<%M8rcj 1 引言 1
h$\hPLx 2 光学薄膜基础 2 ($>0&w 2.1 一般规则 2 !++62Lf 2.2 正交入射规则 3 RzQS@^u*F0 2.3 斜入射规则 6
YPnJldVn 2.4 精确计算 7 5FI>T=QF 2.5 相干性 8 w.p'Dpw 2.6 参考文献 10 TP::y 3 Essential Macleod的快速预览 10 P*Sip?tdE 4 Essential Macleod的特点 32 ^6>|! 4.1 容量和局限性 33 Cl!jK^AbG 4.2 程序在哪里? 33 V&v~kzLr+ 4.3 数据文件 35 >r3< O=Z7 4.4 设计规则 35 W2h[NimU 4.5 材料数据库和资料库 37 wtLMc 4.5.1材料损失 38 f"N3;,Oc 4.5.1材料数据库和导入材料 39 \r,.hUp 4.5.2 材料库 41 1o 78e2B 4.5.3导出材料数据 43 d/rz0L 4.6 常用单位 43
}92lr87 4.7 插值和外推法 46 RLNuH2y; 4.8 材料数据的平滑 50 F5P{+z7 4.9 更多光学常数模型 54 ilpZ/Rs 4.10 文档的一般编辑规则 55 )%w8>1}c 4.11 撤销和重做 56 ya g 4.12 设计文档 57 %5?-g[ 4.10.1 公式 58 =[os<+ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Z3>3&|& 4.10.3 沉积密度 59 .MARF 4.10.4 平行和楔形介质 60 M|e
n>P 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 xGv,%'u\ 4.10.4 性能 61 TJS1,3< 4.10.5 保存设计和性能 64 |S`yXsg 4.10.6 默认设计 64 9XvM%aHs: 4.11 图表 64 e7qMt[. 4.11.1 合并曲线图 67 \'tz| 4.11.2 自适应绘制 68 ]f-'A>MC 4.11.3 动态绘图 68 ]V^.!=gh$ 4.11.4 3D绘图 69 t0d '> 4.12 导入和导出 73 E/$@ud|l" 4.12.1 剪贴板 73 N%|Vzc 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 )60f 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 8!Mzr1: 4.13 背景 77 / ! 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 U{uWk3I_b 4.15 生成Rugate 84 G:C6`uiy` 4.16 参考文献 91 }6,bq`MN 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ';|>`< 5.1 Jobs 92 ! vVjZ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 (i0"hi 5.3 输入材料 94 ^
R^N`V 5.4 设计数据文件夹 95 [piF MxZP 5.5 默认设计 95 Yn]yd1 6 细化和合成 97 @TPgA(5NR 6.1 优化介绍 97 SOQ-D4q 6.2 细化 (Refinement) 98 `e'o~oSu 6.3 合成 (Synthesis) 100 Sb9=$0%\ 6.4 目标和评价函数 101 m<,G:?RM 6.4.1 目标输入 102 akc"}+-oX 6.4.2 目标 103 5QFXj)hR+4 6.4.3 特殊的评价函数 104 Dw/Gha/ 6.5 层锁定和连接 104 <Bb<?7q$ld 6.6 细化技术 104 w$[Ds 6.6.1 单纯形 105 4OZ5hH
h 6.6.1.1 单纯形参数 106 +;wqX]SD & 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ^r$iN %&~ 6.6.2.1 Optimac参数 108 Nk7e iQ 6.6.3 模拟退火算法 109 SAE'?_ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 s.I1L?s1w? 6.6.4 共轭梯度 111 LVFsd6:h 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 FDd>(!> 6.6.5 拟牛顿法 112 G9y12HV 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 L8w76| 6.6.6 针合成 113 ]1|Ql*6y, 6.6.6.1 针合成参数 114 kl3S~gE4@ 6.6.7 差分进化 114 A;WwS?fyQ 6.6.8非局部细化 115 E%\7Uo- 6.6.8.1非局部细化参数 115 <,4R2' 6.7 我应该使用哪种技术? 116 CX ]\Q-y 6.7.1 细化 116 ^Im%D(MY 6.7.2 合成 117 Rp`_Grcd 6.8 参考文献 117 JfP\7 7 导纳图及其他工具 118 :OQ:@Yk 7.1 简介 118 2hwXWTSu 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Ux)p%- 7.2.1 四分之一波长规则 119 IL>/PuZku 7.2.2 导纳图 120 hr!f:D 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 mQ^@ \s 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 R|)2Dg 7.5 斜入射导纳图 141 +G!jKta7B 7.6 对称周期 141 VmOFX:j!, 7.7 参考文献 142 Il^\3T+ 8 典型的镀膜实例 143 >SxZ9T|% 8.1 单层抗反射薄膜 145 ZP63Alt 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 2htA7V*dD 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ULNAH`{D 8.4 W-膜层 148 BheEI;} 8.5 V-膜层 149 [6_Du6\h 8.6 V-膜层高折射基底 150 `J=1&ae |