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/:BM]K 内容简介 4:50dj Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 (mR;MC 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 <,X?+hr 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 saPg2N, vz87]InI 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 y%wjQC 0~ 目录 d i;Fj Preface 1 ]"T1clZKd( 内容简介 2 'Cq)/}0 目录 i _d J"2rx 1 引言 1 GcHy`bQbiX 2 光学薄膜基础 2 r ?e''r 2.1 一般规则 2 +{7/+Zz 2.2 正交入射规则 3 @D3|Ak 1 2.3 斜入射规则 6 asLvJ{d8s 2.4 精确计算 7 /Y7YyjMi 2.5 相干性 8 #[<XNs!" 2.6 参考文献 10 :krdG%r 3 Essential Macleod的快速预览 10 b-Uy&+:X*d 4 Essential Macleod的特点 32 V`,tu `6 4.1 容量和局限性 33 ?Z{:[. 4.2 程序在哪里? 33 :#pfv)W6t 4.3 数据文件 35 M{ 4.4 设计规则 35 Y \oz9tf8 4.5 材料数据库和资料库 37
[<!4 a 4.5.1材料损失 38 :Qd{V3*] 4.5.1材料数据库和导入材料 39 %aHQIoxg 4.5.2 材料库 41 8
FJ>W. 4.5.3导出材料数据 43 0DR:qw 4.6 常用单位 43 Zf [#~4 4.7 插值和外推法 46 d8V)eZYXy~ 4.8 材料数据的平滑 50 TM?RH{(r 4.9 更多光学常数模型 54 B}|(/a@* 4.10 文档的一般编辑规则 55 K3xs=q]:@ 4.11 撤销和重做 56 M<KWx'uV 4.12 设计文档 57 P+/6-C J 4.10.1 公式 58 +j">Ju6Q;. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 9D+B~8[SQ 4.10.3 沉积密度 59 )V6<'>1WZ 4.10.4 平行和楔形介质 60 ~a
RK=i$F 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 \y\@=j 4.10.4 性能 61 D?Y j5eOa 4.10.5 保存设计和性能 64 LNU#NJ^Axt 4.10.6 默认设计 64
Z'ZN^j{ 4.11 图表 64 |OVD*A 4.11.1 合并曲线图 67 UwQyAD]Ht 4.11.2 自适应绘制 68 N:]Ud(VRM 4.11.3 动态绘图 68 8<w8"B.i 4.11.4 3D绘图 69 THXG~3J< 4.12 导入和导出 73 _=s{,t
&u 4.12.1 剪贴板 73 fg8"fbG`: 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 O&(@Ka 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ~,:
FZ1wh 4.13 背景 77 x*}*0). 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 l^"HcP6 4.15 生成Rugate 84 PL6f**{- 4.16 参考文献 91
Fb:Z. 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 U$+G9 5.1 Jobs 92 Gi9s*v,s 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ns/L./z 5.3 输入材料 94 OY?x'h 5.4 设计数据文件夹 95 Co%EJb"tk 5.5 默认设计 95 tPb$ua| 6 细化和合成 97 teDO,$ 6.1 优化介绍 97 8E:d!?<^&I 6.2 细化 (Refinement) 98 F\"`^`(O 6.3 合成 (Synthesis) 100 Bf-KCqC". 6.4 目标和评价函数 101 l^,"^vz 6.4.1 目标输入 102 j1Q"s( 6.4.2 目标 103 WdvXVF 6.4.3 特殊的评价函数 104 $w@0}5Q 6.5 层锁定和连接 104 Y8$,So>~ 6.6 细化技术 104 xD|CQo}: 6.6.1 单纯形 105 I_\#( 6.6.1.1 单纯形参数 106 #;WKuRv 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [fjP.kw;J 6.6.2.1 Optimac参数 108 cIJqF.k 6.6.3 模拟退火算法 109 o7A+O%dX 6.6.3.1 模拟退火参数 109 7B"*< %< 6.6.4 共轭梯度 111 k9|8@3(h 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 =,4iMENm! 6.6.5 拟牛顿法 112 `ywI+^b 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?-HLP%C(' 6.6.6 针合成 113 m+7/ebj{A 6.6.6.1 针合成参数 114 ]@rt/ eX 6.6.7 差分进化 114 Qv`Lc]' 6.6.8非局部细化 115 aGRD`ra 6.6.8.1非局部细化参数 115 6k@(7Mw8A 6.7 我应该使用哪种技术? 116 #@cOyxUt 6.7.1 细化 116 hfBZ:es+ 6.7.2 合成 117 $ZEwz;HNo 6.8 参考文献 117 {"x>ewAf 7 导纳图及其他工具 118 'Rg6JW\ 7.1 简介 118 OlwORtWzZ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 |'R^\M Q 7.2.1 四分之一波长规则 119 (*CGZDg 7.2.2 导纳图 120
?8O %k<? 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (Q /Kp*a 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ^G~C#t^ 7.5 斜入射导纳图 141 C72!::o 7.6 对称周期 141 s,*kWy"jp 7.7 参考文献 142 0OrT{jo 8 典型的镀膜实例 143 ;:/< |