[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 g.f!Uc{  
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建模任务 ,^O**k9F  
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概观 k#`.!yI,  
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光线追迹仿真 2N)=fBF%-  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 4nkH0dJQ  
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•点击Go！ a}`4BMi3  
•获得3D光线追迹结果。 0sVCTJ@  
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光线追迹仿真 J5k\R+\H  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 /MsXw/],  
•单击Go！ gd.P%KC!g  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 R`G%eG)+  
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场追迹仿真 C2AP   
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 $J[h(>-X  
•单击Go！ :g'"*VXYB  
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场追迹结果（摄像机探测器） + }(  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 =w".B[r  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Xo(K*eIN  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 &AGV0{NMh]  
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场追迹结果（电磁场探测器） g-oHu8  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 #1z}~1-  
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