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s 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
#IA[erf: [Oe$E5qv)] 
AtYe\_9 $C ;#I(ucB< 建模任务 /_l%Dm? n>)CCf@H 
*qj @y'1\ 概观 Y2!OJuy Gc 9 }iEEI 
pvQ w+jX 光线追迹仿真 }k.-xa j ) }hp[* C •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
I 1BVqIt1i ez&v"J •点击Go！
|8 c3%jve •获得3D光线追迹结果。
YvHP]N{SA' mEv<r6qDT 
9xyj,;P> 63QMv[`, 光线追迹仿真
YH&`+ + )7Gm<r D3$P vX[f •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
k q8:h •单击Go！
r@f8-!{s2h •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
%RG kXOgp x mb]L:4F 
RZ:Yu fQ=Yf ?b 场追迹仿真 |sMRIW, P @
U'g}K B /:q
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
H ifKa/}P8 •单击Go！
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t,M _ f PZt*A__ 场追迹结果（摄像机探测器） bdZ[`uMD [-_ 3Zr %/"I.\%d
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
!'w h hi •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
ST5L
O#5 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
>0Y >T6 ! Z,)4(#b = 
u\ro9l 6X~.J4 场追迹结果（电磁场探测器） u n \!K d&4 ve Lu •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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