[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 gl{B=NN  
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建模任务 ZF6c{~D  
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概观 "Y;}GlE  
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光线追迹仿真 .@#A|fgv  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 B
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•点击Go！ *nC(-(r:J`  
•获得3D光线追迹结果。 j+rG7z){K  
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光线追迹仿真 Vi*e@IP/  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 t$J.+}}I  
•单击Go！ T 2F6)e  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 %Ip*Kq-  
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场追迹仿真 .iG&Lw\,  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 nXy>7H[0  
•单击Go！ 8|6 4R:  
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场追迹结果（摄像机探测器） k(t}^50^j  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 x3 >  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 3]RyTQ
 
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 :,B7-kBw  
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场追迹结果（电磁场探测器） 6$\jAd|  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 [F!Y%Zp  
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