2:n|x5\H 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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cnC _#kp ]uJM6QuQ 建模任务 f!^)!~ % M+s{ l 
e8 v; D 概观 r8<JX5zyuo
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4g S[D 光线追迹仿真 e=-YP8l
t0+t9w/fTP •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
- =yTAx %pd5w~VP •点击Go！
jf2y0W>6s •获得3D光线追迹结果。
D@2Ya/c JPHUmv6 
_y|[Z; MyK^i2eD 光线追迹仿真 z{@= _5; IBzHR[#,^ ;;D%
l^m+ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
,7QBJ_-;QJ •单击Go！
Bfu/9ad •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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nz }]C04:- wYC9 ~ms- 场追迹仿真 R
A*(|n> bbM4A! N v4X_v!CQ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Cb+P7[X- •单击Go！
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[>Ikitow p<<6}3~ 场追迹结果（摄像机探测器） K
lPm= ::kpl 2r\c k0gJ('zah •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
y- D>xV)n •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
Y}85J:q] Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
Qf/j: &;'w8_K"^ 
39'X$! sxf} Mmsk 场追迹结果（电磁场探测器） Vj?*= UL X%RQB$ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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