[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

V9
aGo#  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ]`@= ;w  
)@lZ~01~d  
Fu0"Asxce  
     : L}Fm2^  
建模任务 }E[u" @}  
> mI1wV[  
%C8p!)Hu  
概观 "rxhS; R1>  
H}v.0R  
hF m_`J&"  
光线追迹仿真 z}Y23W&sX  
p@B/S(Xi  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 bogw/)1  
!~sgFR8W  
•点击Go！ >i&"{GZ  
•获得3D光线追迹结果。 Std?p{ i  
cD^`dn%$  
M$Sq3m`{!  
GjVq"S  
光线追迹仿真 {tS^Q*F  
++>HU{  
qW~Z#Si  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 `O5 Hzb(}  
•单击Go！ #eRrVjbo  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 eXs^YPi  
VkFvV><"  
P:lmQHls+  
     L@mNfLK  
场追迹仿真 oe (})M  
{@1;kG  
uGXN ciEp`  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 -4 *94<  
•单击Go！ XK*55W&og  
c#)!-5E~H  
J\06j%d,  
     N@qP}/}8  
场追迹结果（摄像机探测器） 6[.#B!;9  
T[?wbYfW  
2wCSjAWWh(  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 CBkI! In2  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 )GT*HJR(vc  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 3VI[*b  
iX&eQ{LB  
yT$CImP73  
]VKM3[   
场追迹结果（电磁场探测器） ,0hk)Vvr3  
XY_hTHJ  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Q>ZxJ!B<k  
|2
L|Zp&