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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    1ka58_^  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ~G~:R  
    diF2:80o  
    @z(s\T  
         $ 2k9gO  
    建模任务 zMAlZ[DN  
    Fi#b0S  
    `Zz;[<*<  
    概观 >zv}59M  
    yrR,7v J  
    /f,*|  
    光线追迹仿真 X(K5>L>  
    0 oHnam  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 m?<5-"hz  
    T@DT|lTI  
    •点击Go! M Y>o8A  
    •获得3D光线追迹结果。 J<7nOB}OD  
     /w(t=Y  
    JA^Y:@<{/  
    UmA'aq  
    光线追迹仿真 /;r k-I  
    {@<EVw  
    7_AcvsdW  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 %%k`+nK~  
    •单击Go! *'ex>4^  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 4 O~zkg  
    cvQ MZ,p  
    E.OL_\  
         nHmi%R7k  
    场追迹仿真 ZG)%vB2c  
    a`uHkRX )U  
    t0gLz J  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 }\)O1  
    •单击Go! [|\BuUT'  
    M }tr*L  
    GOhGSV#  
         bcZ s+FOPd  
    场追迹结果(摄像机探测器) BF>3CW7  
    ` SO"F,  
    xk8P4`;d$  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 9DP6g<>B  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 X3;|h93.a  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 7tr;adjs  
    Ok&u4'<  
    g{?]a'?  
    QC*> qo  
    场追迹结果(电磁场探测器) N_"mC^Vx  
    5//.q;z  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 L|[ 0&u!  
    F82_#|kpS  
     
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