[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 E/x``,k  
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建模任务 5{cbcuG  
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概观 %rVC3}  
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光线追迹仿真 [pi!+k  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 o= V
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•点击Go！ @,0W(  
•获得3D光线追迹结果。 CDcZ6.f  
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光线追迹仿真 M]&F1<  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 "I
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•单击Go！ lA}(63j+b  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 4PG]L`J{  
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场追迹仿真 0LX;Vvo  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 BUR96YN.  
•单击Go！ %D|p7&  
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场追迹结果（摄像机探测器） 9UlR fl  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 V<&x+?>S  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ,e\'Y!'  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 *@6,Sr)_  
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场追迹结果（电磁场探测器） <1i:Z*l.  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 wyF'B  
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