[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 T+a\dgd  
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建模任务 -[h2fqu1  
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概观 Fl{@B*3@w  
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光线追迹仿真 ?j'Nx_RoX  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 C>}@"eK  
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•点击Go！ u0o}rA  
•获得3D光线追迹结果。 -za+Wa`vH  
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光线追迹仿真 Ro2Ab^rQ|  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 O4+a[82  
•单击Go！ \me'B {aa  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 EC:u;2f!  
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场追迹仿真 oe4r_EkYwW  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 G`D~OI  
•单击Go！ T4c]VWtD  
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场追迹结果（摄像机探测器） E!s?amM4  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 KAFx^JLo  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 b
Td94  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ]di^H
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[YTOrN  
场追迹结果（电磁场探测器） ^&|KuI+u  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 N E/_  
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