[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

,In}be$:  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 M7.H;.?  
BnU3oP  
i:2eJ.  
     M.K%;j`  
建模任务 -eFq^KP2  
^=arKp,?5  
"b[w%KYyl  
概观 $bF3v=u`  
.zo>,*:t  
7e=s`j  
光线追迹仿真 r:5u(2  
Yu:!l>  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 yDw#V`Y^M  
y
s9'1+9  
•点击Go！ O^r,H,3S  
•获得3D光线追迹结果。 !Q=xIS  
HFW8x9Cc  
64l(ru<  
k3UKGP1  
光线追迹仿真 F/:Jp3@  
\+>g"';f  
N*'d]P2P`J  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ?@H/;hB[|  
•单击Go！ ;oWak`]f  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 \*\)zj*r  
l{t! LTf;  
fBnlB_}e  
     lj 2OOU{  
场追迹仿真 Z`x*Igf8  
jd+U+8r  
f5,!,]XO  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 =-;J2Qlg6  
•单击Go！ RP%7M8V){B  
wqAj=1M\  
:tT6V(-W  
     kZNVUhW6S  
场追迹结果（摄像机探测器） $kxP{0u  
h`pXUnEZ  
fvr|<3ojo  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 p]x
9hZ  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 GI)eq:K_U8  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 gJ?Vk<hp  
wg=-&
-  
V]P%@<C  
CYZ0F5+t  
场追迹结果（电磁场探测器） ,_I#+XiXY  
E\vW>g*W  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Ax'o|RE)x  
BL H~`N3U