[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _c&*'IY[V  

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建模任务 8x{vgx @M  
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光线追迹仿真 ^"
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 R',
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•点击Go！ <\8   
•获得3D光线追迹结果。 xsvs3y|  

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光线追迹仿真 Q.XsY.{  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 $P-m6  
•单击Go！ vraU&ze\1  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ""+*Gn7^8  
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场追迹仿真 =tNiIU  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 "{k )nr+7U  
•单击Go！ 8_m9CQ6 i  
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场追迹结果（摄像机探测器） hN53=X:  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 !S!03|  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 C6M/$_l&a  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 b1u'ukDP\  

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场追迹结果（电磁场探测器） }#x3IE6'  
zrO|L|F&P  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ug,|'<G+  
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