[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 6zWvd  
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建模任务 +GS=zNw#  
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概观 S/;
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光线追迹仿真 E}=NZqOB!  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 v!xrUyN~m  
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•点击Go！ .*blM1+6i/  
•获得3D光线追迹结果。 <GRf%zJ  
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光线追迹仿真 6DW|O<k^j  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Dys"|,F  
•单击Go！ pNFIO t:(  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 hp4(f W  
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场追迹仿真 gDNW~?/  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 y(h(mr  
•单击Go！ Gx_e\fe-/  
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场追迹结果（摄像机探测器） #%"
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 _Pi:TxY  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 B1#>$"_0}=  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 L"6/"L  
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场追迹结果（电磁场探测器） nvVsO>2{ o  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 p!QneeA`&X  

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