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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    =~^b  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 )|gw5N4;  
    blc?[ [,!  
    N['DqS =  
         LG}{ibB  
    建模任务 <'Q6\R}:vC  
    bWPsfUn#  
    l{By]S  
    概观 js$R^P  
    E0HqXd?  
    8PI%Z6  
    光线追迹仿真 J,W<ha*  
    wO??"${OH  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 E^8|xT'h6  
    J}|X  
    •点击Go! fRp]  
    •获得3D光线追迹结果。 %ms%0%  
    LI,wSTVjC  
    %9-^,og  
    R'BB-  
    光线追迹仿真 1NYR8W]2  
    E'iE#He  
    0R x#Fm  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 vPkLG*d 8  
    •单击Go! !gh8 Qs  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 {3Inj8a=?A  
    |Xt G9A>  
    X[Y0r  
         ]n^iG7aB?  
    场追迹仿真 N8A)lYT]_u  
    v,4{:y]p  
    fit{n]g  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 ?v^NimcZ  
    •单击Go! G e;67  
    m8n)sw,,  
    :Cq73:1\B  
         _^ hg7&dF  
    场追迹结果(摄像机探测器) zB.cOMx  
    =Rd`"]Mnfb  
    <2U#U;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Xv1vq -cM  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 X[tt'5  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 :a wt7lqv  
    d$IROZK-D  
    !GOaBs  
    @9/I^Zk  
    场追迹结果(电磁场探测器) Y ^^4n$  
    {FI zoR"  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ybaY+![*  
    +p 6Ty2rz  
     
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