o=@ UXi 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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w [|y0jtw EL D
+:b 建模任务 r@;$V_I =$[W,+X6f 
={OC a1 概观 4bWfx _0W [!5l0{0 
i /C '0 光线追迹仿真 Mr u~<:9 td%Y4-+ - •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
OfW%&LAMQ 5' ),) •点击Go！
`yy%<& •获得3D光线追迹结果。
QK,=5~I J Jr|K> 
"rL"K '\4c "Ho 光线追迹仿真 eN Hpg j vxF:vI# @ uTxX`vH@! •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
?#x'_2 •单击Go！
`AB~YX%( •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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6Uch 0xha! T %$2k> 场追迹仿真 F %9e@{ l A 0-?k <d3PDO@w/ •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
Q=dw 6 •单击Go！
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8|fLe\" +!D=SnBGs 场追迹结果（摄像机探测器） +?ws !LgF \z &03@Sw {(8U8f<'=y •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
<.y;&a o •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
MYKs??]Y1 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
0- 6:AHix 2(@L Rl>: 
&h98.A*& 6tDg3`w> 场追迹结果（电磁场探测器） 5)h+(u C3 GG@iKL V •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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