[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 P&=lV}f  
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建模任务 kiUk4&1  
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概观 2Q
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光线追迹仿真 Mi0sC24b|  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ;Yts\4BSM  
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•点击Go！ =r4!V>  
•获得3D光线追迹结果。 4s.]M>Yb  
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光线追迹仿真 =/9^, 6Q(  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 \8v91g91
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•单击Go！ E^V|  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 Xu}U{x>  
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场追迹仿真 m&Yi!7@(  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 k*Nr!Z!}  
•单击Go！ v#oi0-9o[  
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场追迹结果（摄像机探测器） D$r Uid  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 VLvS$0(}Z  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 _GA$6#]  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 j,-C{ K  
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场追迹结果（电磁场探测器） !{UTD+|=N  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 I0Ia6w9  
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