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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-01-18
    .`K<Iug1  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 <; Bv6.Z  
    k),.  
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    建模任务 /<$\)|r  
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    概观 u4a(AB>S  
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    光线追迹仿真 3KW4 ]qo~  
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    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 N3J;_=<4  
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    •点击Go! kq kj.#u  
    •获得3D光线追迹结果。 .`3O4]N[  
    mew,S)dq!  
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    光线追迹仿真 D-tm'APq  
    JXIxk"m  
    [Q2"OG@Q  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 "ebm3t@C  
    •单击Go! V94eUmx>?+  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 Io81zA  
    xQ=sZv^M  
    rv\m0*\<  
         z_^Vgb]  
    场追迹仿真 [Grd?mc#  
    aI l}|n"  
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    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 Xv%1W? >@/  
    •单击Go! "Vg1'd}f  
    dC7YVs_,#  
    1webk;IM  
         \Y0o~JD  
    场追迹结果(摄像机探测器) `H.~ # $  
    O#g'4 S  
    .BR2pf|R  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Wz~=JvRHh  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 \L"Vx9xT  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 x9s 7:F  
    .m&JRzzV  
    /7 CF f&4  
    s^{hdCCl67  
    场追迹结果(电磁场探测器) 2L<iIBSJwm  
    Sd !!1a s  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 ?~vVSY  
    GxL;@%B  
     
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