.`K<Iug1 高NA物镜广泛用于
光学光刻,
显微镜等。因此,在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
<;Bv6.Z k),.
\`M8Mu9~w rik0F 建模任务 /<$\)|r y6nPs6kR
[q{[Avqf 概观 u4a(AB>S ("B[P/
na1*^S`[ 光线追迹仿真 3KW4 ]qo~ jRP9e •首先选择“光线追迹
系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
N3J;_=<4 5J4'\M •点击Go!
kq kj.#u •获得3D光线追迹结果。
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i7/I8y C.[abpc 光线追迹仿真 D-tm'APq JXIxk"m [Q2"OG@Q •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
"ebm3t@C •单击Go!
V94eUmx>?+ •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
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rv\m0*\< z_^Vgb] 场追迹仿真 [Grd?mc# aIl}|n" 5QR=$?K •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
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>@/ •单击Go!
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1webk;IM \Y0o~JD 场追迹结果(摄像机探测器) `H.~#$ O#g'4 S .BR2pf|R •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
Wz~=JvRHh •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
\L"Vx9xT Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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CF f&4 s^{hdCCl67 场追迹结果(电磁场探测器) 2L<iIBSJwm Sd!!1as •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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