[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 P*kC>lvSv  
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建模任务 tFX!s;N[  
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概观 J;Eg"8x]  
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光线追迹仿真 U9h@1:  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 77;|PKE /  
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•点击Go！ o<7'(Pz  
•获得3D光线追迹结果。 2,G9~<t  
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光线追迹仿真 ;a`I8Fj  
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•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 AP(%m';  
•单击Go！ {@>6E8)H5  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 ?9;r|G  
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场追迹仿真 R<e ~Cb-  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 )"f*Mp  
•单击Go！ /t_AiM,(  
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场追迹结果（摄像机探测器） `_>44!M  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 P
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•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 JI|MR#_u  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 YF<U'EVU-  
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场追迹结果（电磁场探测器） OsNJ;B  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 `*--vSi  
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