Jl`^`Yv 高NA物镜广泛用于
光学光刻，
显微镜等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用
VirtualLab对这种
镜头进行
光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。
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In96H` eQu(3 sYb 建模任务 hoqZb<: xS/W}-dPv 
/#M1J:SV 概观 iiIns.V :QGo
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C: t>u.. 光线追迹仿真 e! *] y&W ?0qD(cfx< •首先选择“光线追迹
系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。
X_o#! EOrui:.B) •点击Go！
'QT~o-U •获得3D光线追迹结果。
Y|fD)zG_ K!&W} _@l 
BA2"GJvfIA v-3VzAd=*& 光线追迹仿真 .s*N 1
U?h ?o ;ip [:cD •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。
bt) C+|i •单击Go！
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"| / •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。
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9 ,INyEyAL rz%~=Ca2j 场追迹仿真 )-)rL@s. x:MwM? Jq &Hz$L| •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。
yogavCD9b/ •单击Go！
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bC'.m 场追迹结果（摄像机探测器） F(ydqgH~a w BXa;. 1]Xx {j< •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
>fXtu:C-!J •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。
GLtWo+g0 Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
wkx9@?2* &Uam4'B6- 
HXKM<E{j {k3ItGQ_ 场追迹结果（电磁场探测器） #M A6eE'R i#*[,
P~ •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
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