[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

$9pFRQC'
q  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 _~?N3G  
FL}k0  
o`hVI*D  
     D -Goi-4  
建模任务 ')kn  
j]uL9\>  
C?v_ig  
概观 7B@[`>5?%L  
GCn^+`.h1t  
oxN~(H)/ #  
光线追迹仿真 FdR!jt  
"pdq_35  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 U$;FOl  
h,-8( S  
•点击Go！ 8]!%mrS  
•获得3D光线追迹结果。 6%/@b`vZ  
][ri A  
s68&AB  
\`:X37n)0q  
光线追迹仿真 8!a6)Zeux  
?}y{tav=  
>'>onAIL  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ?&Zfb  
•单击Go！ XUf]gQu3=  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 Ba=P  
g<,kV(_7  
CAGaZ rx  
     so~vnSQ!x  
场追迹仿真 Gw3H1:yo  
W2CCLq1
(  
Qqt<  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h,:8TMJRRN  
•单击Go！ ?.&]4z([  
9cJzL"yi  
h^{D "  
     W'f{u&<  
场追迹结果（摄像机探测器） Tvd=EO  
$S~e"ca1  
iqCZIahf  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 &"^,Ubfcn"  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Im9^mVe  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 F<'@T,LVc  
%<x2=#0  
Vx1xULdY  
&yFt@g]  
场追迹结果（电磁场探测器） 8$SA"c)  
'je=.{[lWt  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 joa|5v'  
MV"aO@