[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

U 0ZB^`  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 v29G:YQe  
{&nV4
c$v  
ZcZ
;$*  
     sS,#0Qt.  
建模任务 +*t|yKO>[  
e!o(g&wBj  
IM-`<~(I#  
概观 6d{j0?mM  
XS0V:<+,  
EE%s<_k`  
光线追迹仿真 2X@G"  
MtG_9-  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 ;1LG&h,K  
"r-l8r,  
•点击Go！ 
x9}++r  
•获得3D光线追迹结果。 [b5(XIGUN}  
w4:
<fnOM  
 0:d
B 9  
?*K<*wBw#  
光线追迹仿真 YIDg'a+z  
z/vD
gH!s  
d1NE%hg3  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 &]3
:D  
•单击Go！ ^"tqdeCb=  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 POBpJg  
`$9L^Yg,4  
#Si
|!  
     R|t;p!T  
场追迹仿真 YY!!<2_  
deM~[1e[  
kGD|c=K}  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 !3KPwI,  
•单击Go！ slSR=XOG  
@9_)On9hZ  
tQ0=p| T]  
     \UtS>4w\  
场追迹结果（摄像机探测器） oY
qE*mA  
/'Bdq?!B&  
/'+4vXc@  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 V~c(]K)-  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 R1 qMg
+  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 Spc&X72I  
Isp_U5M  
]n1D1  
`1_FQnm)  
场追迹结果（电磁场探测器） WH;xq^  
GG>Y/;^  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 Wy,"cT  
a^*B5G1(&