[技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

Gh.[dF?  
高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 BZ54*\t  
"pP^*9FrA  
gKYfQ+  
     %a+mk E  
建模任务 !K f#@0E..  
4%nE*H%  
j)C,%Ol  
概观 l vMlL5t  
*!s;"U  
/1mW|O>0  
光线追迹仿真 uN([*'0Cg  
9RN-suE[  
•首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 D=m'pL/pl  
FCi U  
•点击Go！ N,8/Y  
•获得3D光线追迹结果。 +LM#n#T  
TJ q~)Bm  
1cS}J:0P  
NS%WeAf  
光线追迹仿真 }by;F
9&B  
5[0 O'%$  
h3LE>}6D  
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 $,+O9
Et  
•单击Go！ r\qj!  
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 'Vyt4^$%  
h$4Hw+Yxs]  
Zjbc3M5  
     [<DZ*|+  
场追迹仿真 R" ;xvo*  
P"B0_EuR<T  
Tb3J9q+ya  
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 S S2FTb-m  
•单击Go！ ~HOy:1QhE=  
8GvJ0Jq}U  
DxUKUE  
     _%5Ro6  
场追迹结果（摄像机探测器） "@??Fw!  
uV!^,,~  

E_vq  
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 U2bjFLd"  
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 +=O5YR!{  
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
MyT q  
xuqv6b.  
9FB19  
{q"OM*L(  
场追迹结果（电磁场探测器） 1oc3$A  
D#3\y*-y?  
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 qWQ/'M  
j'A_'g'^