cn_KHz= 光栅结构广泛用于
光谱仪、近眼显示
系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。
gy My;}a NQbgk+&wD 
dlV HyCW |JUAR{ 本用例展示了......
@G>&Gu;5 •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如：
'Hq#9?<2M - 矩形光栅界面
y<8o!=Tb5 - 过渡点列表界面
OBM&N - 锯齿光栅界面
C !Lu`y - 正弦光栅界面
/-ewCCzZV •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。
3=lQZi<]% pN;T t+} 光栅工具箱初始化 >ufN[ab •初始化
Ve\!:,(Y_ - 开始
wqQrby< 光栅
!xC IvKW 通用光栅光路图
G'_5UP! •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状，
kgF x 可直接选择特定的光路图。
EhIa3 1>X { *qz<U > 
M ~6k[ew H#I%6k*\a 光栅结构设置 HO8x: 2m •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和
材料。
$olITe"$g 
7/c9azmC •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。
>D$NEO^ •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。
|0N1]Hf q9 m-d-!) 
rgrsNr:1 X& Pj •例如，选择第一个界面上的堆栈。
p( [ F Z `SESj)W(y 堆栈编辑器 IlP@a[:_ •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。
X;p4/ *U •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。
HNL;s5gq jE, oEt O; 
kD 4J{\ E1rx uV|9 矩形光栅界面 l*4_
[- x]% •一种可能的界面是矩形光栅界面。
k3B] u.Lo •此类界面适用于简单二元结构的配置。
^sZ, (sc{G •在此示例中，由银制成的光栅位于
玻璃基板上。
gl"1;C •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。
8` f=E h •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。
VTJ,;p_UH f5|Ew&1EP 
zE4TdT1y| pr"~W8 矩形光栅界面 @D&}ZV=J •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。
75#&hi/~ •所选界面在视图中以红色突出显示。
rXg#_c5j 
;Quk%6;[N •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。
C XiSin •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。
/M8&` 
x[H9<&)D •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。
73d7'Fw •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。
5"&{Egc_ •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。
>Sh"/3%q dWAKIBe 
ob;$yn7ZO1 B[6y2+6$0 
-_|U"C$ cv / 矩形光栅界面参数 lCMU{) •矩形光栅界面由以下参数定义
#i~2C@] - 狭缝宽度（绝对或相对）
SPK%
' s - 光栅周期
"~zQN(sR"P - 调制深度
1K'.QRZMb9 •可以选择设置横向移位和旋转。
F~_)auH DU%j;`3 
Yy:Q/zw o %?[H=v(b 高级选项和信息 x_TtS| •在传播菜单中，有几个高级选项可用。
L[FNr& •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
i=G.{. •可以设置总级次数或衰逝波级次数
8 m
T..23 （evanescent orders）。
XN1\!CM8 •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。
;\Vi~2!8 •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。
d;10[8:5= ,|
EaW& 2 
H6PS7g" j4G?=oDb •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。
/*8Ms` •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。
w;p!~o & •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。
m!-,K 8 •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。
` d[ja, Nn;p1n
dN 
T m0m$l #YMU}4=: 过渡点列表界面 /"M7YPX; •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。
Gf{FFIe( •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。
:b_R1ZV|
•同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。
$|yO
mh 
H,!3s<1 ~~_!& 过渡点列表参数 -gpF% g`H •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。
BiUOjQC# •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。
>=_Z\ wA )Ekp <2B:0 
,\BGxGNAmV i Y JzSVO •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。
.l- >O-= •此处，可以定义x方向和y方向的周期。
{)QSxO •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。
i$A0_ZJKjZ aBO%qmtt 
; *Cu >f7 q{W@J0U 高级选项及信息 *y;(c)_w/% •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。
fQ^45ulz \666{. a 
y0R5YCq\": : _>/Yd7-& 正弦光栅界面 Q( C\X •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。
K)AJx" •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。
=2z9Aq{ •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
D# T1~r4 - 脊的材料：基板的材料
D e> ' - 凹槽材料：光栅前面的材料
>~kSe=Hsb4 4$=Dq$4z 
VHJ-v! oD]riA>jC 正弦光栅界面参数 4q`$nI Bi - 正弦光栅界面也由以下参数定义：
`&"-| •光栅周期
; c'9Xyl- •调制深度
J0e ~s - 可以选择设置横向移位和旋转。
,rB"ag ! - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。
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"`Q .z~ 
/\S1p3EW* 'L w4jq 高级选项和信息 +@Oo)#V|. •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。
a_UVb'z EPQ ~ V 
l%?D%'afN m8q3Pp 高级选项及信息 38wt=0br •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。
h ]rF2 B )19As8rL/o 
cC.=,n 锯齿光栅界面 vpy_piG| •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。
HCh;X i •此界面允许配置闪耀结构的光栅。
XCNfogl •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
tp='PG.6 - 脊的材料：基板的材料
b5hJaXJN - 凹槽材料：光栅前面的材料
Dl kHE8r\ ^rI< }cfR 
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X km; M!}D 锯齿光栅界面参数 Zc "Vf]: •锯齿光栅界面也由以下参数定义：
.!ThqYo - 光栅周期
s6(iiB%d - 调制深度
[Yx)`e •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。
'1lr "}"Q+ •可以选择设置横向移位和旋转。
KLI(Rve24 •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。
=#@eDm% "#H@d+u 
| fMjg'%{} ~R V>V*l 高级选项和信息
=v4;t'_^ •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。
EK^B=)q6:W 
o0Z(B TO 探测器位置的注释 y9?~^pTx 关于探测器位置的注释 3Zm'09A-. •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。
x&6SjlDb$K •如果光栅包含在复杂的
光学装置中，则必须这样做。
"T /
vE •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。
%[:\ZwT,- •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估
软件）。
VtX9}<Ch~ •可以避免这些干涉效应的不良影响。
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