#3Ej0"A@-B 光栅结构广泛用于
光谱仪、近眼显示
系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法（FMM）以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中，可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的，并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中，介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。
M9s43XL(& B F@5&>E 
\S iHrr5 O%JsUKV 本用例展示了......
] Q4PbW •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构，例如：
wLOQhviI^- - 矩形光栅界面
8L -4}!~C - 过渡点列表界面
JpxbB)/ - 锯齿光栅界面
5`E`Kb+@ - 正弦光栅界面
* K,hrpYR •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。
Z<ajET`) IObx^N_K 光栅工具箱初始化 MZ5Y\-nq\ •初始化
Cl6m$YUt - 开始
GjeUUmr 光栅
.5Knb c 通用光栅光路图
a4T~\\,dZ> •注意：使用特殊类型的光栅，例如： 矩形形状，
i>Fvmw 可直接选择特定的光路图。
^I Ve[P' _^ q\XPS 
[Y $5zeA 7}?k^x,1 光栅结构设置 WgA`kT •首先，必须定义基板（基块“Base Block”）的厚度和
材料。
OQ(D5GR:4 
cGE=. •在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈（stack）中定义。
(S
k#x •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。
.73zik a#+>w5 
_\dt?(m| 8M^wuRn •例如，选择第一个界面上的堆栈。
_)KY dU]i -NF 堆栈编辑器 {[ 2tG U9 •在堆栈编辑器(Stack Editor)中，可以从目录中添加或插入界面。
k]?z~ p •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。
k7^R,.c@ c[VrC+e m 
)?w&oIj5 %5JW< 9 矩形光栅界面 7L =T]W P</s)"@ •一种可能的界面是矩形光栅界面。
. Gizz</P~ •此类界面适用于简单二元结构的配置。
_i3i HR? •在此示例中，由银制成的光栅位于
玻璃基板上。
t` "^7YFS> •为此，增加了一个平面界面，以便将光栅结构与基块分开。
'h-3V8m^e •在堆栈编辑器的视图中，根据折射率（黑暗表示更高），其他颜色表示不同的材料。
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5x8'K7/4.
RT % x&j 矩形光栅界面 NJ ZXs_%>$ •请注意：界面的顺序始终从基板表面开始计算。
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g7 •所选界面在视图中以红色突出显示。
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c[SU5 66y •此外，此处无法定义光栅前方的介质（指最后一个接界面后面的介质）。 它自动取自光栅元件前面的材料。
I4)Nb WQ •可以在光路编辑器（Light Path Editor）中更改此材质。
fNkuX-om 
XQ]`&w( •堆栈周期（Stack Period）允许控制整个配置的周期。
Kb}MF9?:e •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。
Zta$R,[9h •如果是简单的光栅结构，建议选择“取决于界面周期”（Dependent from Period of Interface）选项，并选择适当的周期性界面索引。
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xE%O:a?S !#q{ Z>H` 矩形光栅界面参数 ~}BJ0P(VMc •矩形光栅界面由以下参数定义
?>sQF4 V" - 狭缝宽度（绝对或相对）
A j, ]n>{ - 光栅周期
$^t<9" t - 调制深度
\}D pb%^\ •可以选择设置横向移位和旋转。
< CDA" TWUUvj`. 
OCCEL9d /I`3dWL 高级选项和信息 [*<.?9n)or •在传播菜单中，有几个高级选项可用。
B={/nC}G~ •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。
uJgI<l'|e3 •可以设置总级次数或衰逝波级次数
pA<eTlH （evanescent orders）。
Q uB+vL •如果考虑金属光栅，这项功能非常实用。
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We9% •相反，在介质光栅的情况下，默认设置就足够了。
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<"?*zx& + 3h`UF •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。
/|?F)% v\ •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。
! a o6e •此外，有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。
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xK|U •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。
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(#$$ nQj Ox^:)i i 过渡点列表界面 P.c O6+jGR •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。
=+<d1W`>0 •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。
~AQ>g#|% •同样，平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。
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b$Ln} < $Z ]z 过渡点列表参数 vI Vr@1S •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。
CZY7S*fL •上限（Upper Limit）必须设置为大于所需光栅周期一半的值，但在周期性结构的情况下自动设置。
#zt*xS[{0 Q[uAIyv0 
=h |ww QE M LV :U •必须在周期化（Periodization）选项卡中设置此界面的周期。
r,4lqar;E •此处，可以定义x方向和y方向的周期。
1* ^'\W. •在这种情况下，可以忽略内部和外部定义区域的设置，因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。
"b]#MO}P ! RPb|1Y}+ 
fywvJ$HD]L *_1[[~Aw 高级选项及信息 NG" yPn •同样，可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。
\gItZ}+c4} A2NF<ZsD 
-f9]v9|l 7)^:8I( 正弦光栅界面 ;wR ' z$8 •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。
Q`A6(y/s? •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。
cwe1^SJ 6y •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
8gC)5Y - 脊的材料：基板的材料
OR4!YVVQ - 凹槽材料：光栅前面的材料
jJBnDx sA YTQps&mD. 
M4KWN' /syVGmS'M 正弦光栅界面参数 Gf0,RH+ - 正弦光栅界面也由以下参数定义：
9J nY$e<& •光栅周期
}mZV L~|V •调制深度
gcf6\f}\< - 可以选择设置横向移位和旋转。
O> c$sL0g - 由于这是光栅界面（类似于矩形和锯齿借口），因此不必选择周期。
0y~<%` ~ zN{JJ3- 
jQ=~g-y inAAgW#s} 高级选项和信息 !tXZ%BP. u •同样，可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。
~e" >_;k6 d-B7["z , 
he$XLTmr: Kesy2mE 高级选项及信息 C5@V/vA •如果增加层数（例如，增加2倍），则离散化变得光滑。
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y3eHF^K+$ 锯齿光栅界面 PB 53myDQ •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。
@I -Lv 5 •此界面允许配置闪耀结构的光栅。
"e6|"w@8 •如果使用单个界面来描述光栅结构，则会自动选择材料：
QTmZ( >z - 脊的材料：基板的材料
1J}8sG2` - 凹槽材料：光栅前面的材料
`f9gC3Hk 2p!"p`b~ 
wO.iKX; %gd(wzco 锯齿光栅界面参数 "i&"* ~ •锯齿光栅界面也由以下参数定义：
,v9f~qh - 光栅周期
nSx]QREL! - 调制深度
^ qvZ XS •此外，闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。
q,%:h`t\ •可以选择设置横向移位和旋转。
zj|WZ=1*Wp •由于这是光栅界面（类似矩形和正弦型），因此不必选择周期。
x\\~SGd +jP~s 
IQH[Q9 % o[1ylzk}+ 高级选项和信息 JC#> Td •同样，可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。
3c3OG.H$8 
Kw5Lhc1V 探测器位置的注释 D@oCP =m< 关于探测器位置的注释 IMGP'g •在VirtualLab中，探测器默认位于基板后面的空气中。
> \Sr{p5KR •如果光栅包含在复杂的
光学装置中，则必须这样做。
mQ~:Y •但是，完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应，而实际情况并非如此。
NbRn*nb/T •因此，为了计算光栅效率，应将探测器设置在基板材料内（同样适用于大多数光栅评估
软件）。
fc_2D| •可以避免这些干涉效应的不良影响。
-&2B@]] 
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