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"'*Qq@!3? 内容简介 XCj8QM.o Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g).IF. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Lk2;\ D> 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 JmF:8Q3H .f-s+J&ED 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 P2fiK 目录 P2g}G4qf Preface 1 @_H
L{q%h 内容简介 2 #tN!^LLi 目录 i %
8P8h%%Z 1 引言 1 l?O%yf`s 2 光学薄膜基础 2 SYA0Hiw7P 2.1 一般规则 2 TpRI+*\ 2.2 正交入射规则 3 a[ yyEgm2 2.3 斜入射规则 6 u[6aSqwC| 2.4 精确计算 7 _g%,/y 9y 2.5 相干性 8 s[Whg!2~ 2.6 参考文献 10 >)bn #5 3 Essential Macleod的快速预览 10 -0>s`ruor 4 Essential Macleod的特点 32 JYrOE"!h 4.1 容量和局限性 33 pcNpr`
4.2 程序在哪里? 33 ?wpl
88z 4.3 数据文件 35 TEQs9-Uy 4.4 设计规则 35 n8Rsle`a 4.5 材料数据库和资料库 37 NX8.
\Pf# 4.5.1材料损失 38 yV t8QF! 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Odr<fvV,> 4.5.2 材料库 41 AHet,N 4.5.3导出材料数据 43 =3|5=ZU034 4.6 常用单位 43 #Q/xQ`+|. 4.7 插值和外推法 46 YQ`88z 4.8 材料数据的平滑 50 ^_t7{z%sA[ 4.9 更多光学常数模型 54 r#NR3_@9 4.10 文档的一般编辑规则 55 B3W2?5p 4.11 撤销和重做 56 D-Q54 "^3 4.12 设计文档 57 @me ( pnD 4.10.1 公式 58 .#LvvAeh 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4VP$,|a 4.10.3 沉积密度 59 r#B{j$Rw
4.10.4 平行和楔形介质 60 u-R;rf5%k 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ]SUW"5L- 4.10.4 性能 61 s&M#]8x;x 4.10.5 保存设计和性能 64 G8lTIs4u; 4.10.6 默认设计 64 y*T@_on5 4.11 图表 64 ,U.|+i{ 4.11.1 合并曲线图 67 %afz{a5 4.11.2 自适应绘制 68 LF ;gdF%@ 4.11.3 动态绘图 68 nU/x,W[} 4.11.4 3D绘图 69 7T?T0x3> 4.12 导入和导出 73 /X;!
F> 4.12.1 剪贴板 73 \L"0Pmt[ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 a0PClbf2. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 j`QXl 4.13 背景 77 ZJV;&[$[ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 q OV$4[r 4.15 生成Rugate 84 ~|&To> 4.16 参考文献 91 3bagL)'iz 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Rts.jm>[ 5.1 Jobs 92 R<Ct{f! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 )<`/Aaie 5.3 输入材料 94 :oytJhxU 5.4 设计数据文件夹 95 O
+Xu?W] 5.5 默认设计 95 +kx#"L: 6 细化和合成 97 xG|lmYt76 6.1 优化介绍 97 <*z9:jzQ 6.2 细化 (Refinement) 98 t:%u4\nZ; 6.3 合成 (Synthesis) 100 `gdk,L] 6.4 目标和评价函数 101 3^]Kd 6.4.1 目标输入 102 @Uqcym. 6.4.2 目标 103 @wh-.MD 6.4.3 特殊的评价函数 104 K
Vnz{cx` 6.5 层锁定和连接 104 6t'vzcQs 6.6 细化技术 104 4R&pb1eF 6.6.1 单纯形 105 mV|Z5 =f 6.6.1.1 单纯形参数 106 Thuwme 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 sPRs;to- 6.6.2.1 Optimac参数 108 JPq' C$ 6.6.3 模拟退火算法 109 @!B%ynrG 6.6.3.1 模拟退火参数 109 \N.Bx
6.6.4 共轭梯度 111 Tz{-L%*# 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 xd!GRJ<I 6.6.5 拟牛顿法 112 +GT"n$)+ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 b"eG8 6.6.6 针合成 113 jBJ|%KM 6.6.6.1 针合成参数 114 v\-7sgZR 6.6.7 差分进化 114 07>Iq8<mu 6.6.8非局部细化 115 nxs'qX(D 6.6.8.1非局部细化参数 115 d+]/0J!c 6.7 我应该使用哪种技术? 116 WB\chb%ej# 6.7.1 细化 116 Z8o8>C\d9/ 6.7.2 合成 117 B1o*phM
g 6.8 参考文献 117 G],W{<Pe 7 导纳图及其他工具 118 @|fT%Rwho< 7.1 简介 118 4]no#lVRJ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 AizLzR$OG 7.2.1 四分之一波长规则 119 X yD*V;.E 7.2.2 导纳图 120 a>egH
og 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ,j%feC3 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ;&
zBNj 7.5 斜入射导纳图 141 ?:#$btmn? 7.6 对称周期 141 t{O2JF#5u 7.7 参考文献 142 14yzGhA 8 典型的镀膜实例 143 c> ":g~w 8.1 单层抗反射薄膜 145 $`_xP1bUT 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ,Ofou8C6 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 F<(?N!C?@ 8.4 W-膜层 148 uOb}R 8.5 V-膜层 149 &W
N
R{ 8.6 V-膜层高折射基底 150 ~;I'.TW 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 m,r>E%;Cj 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Gy!bPVe 8.9 四层抗反射薄膜 153 TchByN6oN< 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 uk)D2.eS, 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 wcW}Sv[r 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 vzZ"TSP 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 {#&j |