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CiHx.5TiC 内容简介 1#"wfiW Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 x%@M*4:& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /#:*hn 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 >#mKM%T2MJ T$r/XAs 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 B&59c*K 目录 buzpmRoN) Preface 1 *1b0IQ$g 内容简介 2 ?
B|i 目录 i <)O#Y76s 1 引言 1 mqJD+ K 2 光学薄膜基础 2 Xu_1r8-|=b 2.1 一般规则 2 .*YOyK3H 2.2 正交入射规则 3 }>y~P~`S: 2.3 斜入射规则 6 J'=s25OWU 2.4 精确计算 7 suhnA(T{ 2.5 相干性 8 ]CS
N7Q+l 2.6 参考文献 10 d@JavcR 3 Essential Macleod的快速预览 10 Z9% u,Cb 4 Essential Macleod的特点 32 P*?2+. 4.1 容量和局限性 33 ;2fzA<RkK 4.2 程序在哪里? 33 ~/SLGyu 4.3 数据文件 35 ^HP$r* 4.4 设计规则 35 "k [$euV 4.5 材料数据库和资料库 37 H|?r_Ns 4.5.1材料损失 38 g .:ZMV 4.5.1材料数据库和导入材料 39 S$wC{7?f 4.5.2 材料库 41 ^Vh^Z)gGi 4.5.3导出材料数据 43 ^5 "yY2}- 4.6 常用单位 43 +dq2}gM 4.7 插值和外推法 46 SU7,uxF 4.8 材料数据的平滑 50 Te)%L*X 4.9 更多光学常数模型 54 1T~`$zS7 4.10 文档的一般编辑规则 55 6,~
% 4.11 撤销和重做 56 id`9,IJx 4.12 设计文档 57 #gf0*:p 4.10.1 公式 58 \:n<&<aVSr 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 E){ODyk 4.10.3 沉积密度 59
8rU| Oh 4.10.4 平行和楔形介质 60 XNvlx4 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 4.kn,s 4.10.4 性能 61 Y3)*MqZlF 4.10.5 保存设计和性能 64 5V0#_!QAN 4.10.6 默认设计 64 7Fa1utVI 4.11 图表 64 T`I4_x 4.11.1 合并曲线图 67 r:U<cLT[9 4.11.2 自适应绘制 68 ct(euPU 4.11.3 动态绘图 68 0Y~5|OXJ 4.11.4 3D绘图 69 (h@~0S 4.12 导入和导出 73 +y-3tcI) 4.12.1 剪贴板 73 ESS1 L$y 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 kOel
!A 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ~ me/ve 4.13 背景 77 9I1`* 0A 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 BH$hd|KD< 4.15 生成Rugate 84 !*"#*)S. 4.16 参考文献 91 vsq
|m5 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 vBY?3p,0p 5.1 Jobs 92 [-)BI|S: 5.2 创建一个新Job(工作) 93 RM25]hx 5.3 输入材料 94 &y3;`A7, 5.4 设计数据文件夹 95 $ O;a~/T 5.5 默认设计 95 g</Mk^CE 6 细化和合成 97 [|YuT:Cp 6.1 优化介绍 97 7$L*nf 6.2 细化 (Refinement) 98 `P;3,@
e 6.3 合成 (Synthesis) 100 .36]>8 6.4 目标和评价函数 101 R++w>5 5A 6.4.1 目标输入 102 VW] ,R1q 6.4.2 目标 103 [XA:pj;rg' 6.4.3 特殊的评价函数 104 =AuxMEg 6.5 层锁定和连接 104 ?IiFFfs 6.6 细化技术 104 ZzT"u1,& 6.6.1 单纯形 105 *>lXCx 6.6.1.1 单纯形参数 106 soB_j 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [&p/7 6.6.2.1 Optimac参数 108 %W2
o`W$ 6.6.3 模拟退火算法 109 wI[J> 9Qn 6.6.3.1 模拟退火参数 109 [Z]CBEE 6.6.4 共轭梯度 111 O3p<7`K<4 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 H ;HFen| 6.6.5 拟牛顿法 112 v +?'/Q% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 2<_|1%C 6.6.6 针合成 113 =d
JRBl 6.6.6.1 针合成参数 114 @`SlOKz!= 6.6.7 差分进化 114 $h1pL>^J 6.6.8非局部细化 115 ~#P` 7G 6.6.8.1非局部细化参数 115 7C@m(oK 6.7 我应该使用哪种技术? 116 xI5zP?
_v 6.7.1 细化 116 ^%33&<mB} 6.7.2 合成 117 n1y*`5! 6.8 参考文献 117 1z8fhE iiE 7 导纳图及其他工具 118 B!1L W4^ 7.1 简介 118 TzV~I\a| 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 4+N9Ylh 7.2.1 四分之一波长规则 119 MBFn s/ 7.2.2 导纳图 120 69``j{Z+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 1KI5tf>>p 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 idZ]d6 7.5 斜入射导纳图 141 >td\PW~X 7.6 对称周期 141 |
Fk9ME 7.7 参考文献 142 aN"dk-eK 8 典型的镀膜实例 143 2TX.%%Ze
8.1 单层抗反射薄膜 145 %uy?@ e 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :h<QM$P< 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 U 0dhr; l 8.4 W-膜层 148 yxy~N\0 8.5 V-膜层 149 ^A t,x 8.6 V-膜层高折射基底 150 9Qc=D"' 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 RV6|sN[x> 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 t",b.vki\z 8.9 四层抗反射薄膜 153 y6Ea_v 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 -Rr Qv( 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 udX!R^8jE 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 :>, m$XO 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 M}!E :bv' 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
k<
g 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Jgzg[6 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 LhtA]z,m 8.17 1/4波长堆栈 162 Jnq}SUev 8.18 陷波滤波器 163 jRSY`MU}t+ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 d/` d:g 8.20 褶皱 165 -ob1_0 8.21 消偏振分光器1 169 Xwk_QFv3 8.22 消偏振分光器2 171 p!p:LSk"/b 8.23 消偏振立体分光器 172 ~5wT|d 8.24 消偏振截止滤光片 173 P&9&/0r=_ 8.25 立体偏振分束器1 174 =_9grF- 8.26 立方偏振分束器2 177 6kHb*L Je 8.27 相位延迟器 178 q-d#bKIf 8.28 红外截止器 179 qM0Df0$?x 8.29 21层长波带通滤波器 180 0D^c4[Y'l 8.30 49层长波带通滤波器 181 &l |