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~p8-#A)X,) 内容简介 e:!&y\'"9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W~dS8B=< 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Bv!j.$0d{ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 aSKI%<?xN ?L{[84GSO 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 %4+r& 目录 _~5{l_v|I Preface 1 S
G]e^%i 内容简介 2 *Pw;;#\B 目录 i oD~VK,. 1 引言 1
Sn" 1XU 2 光学薄膜基础 2 "{L%5:H@ 2.1 一般规则 2 mpXco *!_ 2.2 正交入射规则 3 \f@PEiARG7 2.3 斜入射规则 6 Wd&!##3$Q 2.4 精确计算 7 *Swb40L^ 2.5 相干性 8 a.wRJ 2.6 参考文献 10 [y=k}W}z 3 Essential Macleod的快速预览 10 DghX(rs_ 4 Essential Macleod的特点 32 H4^-M Sw 4.1 容量和局限性 33 H%Q@DW8~@ 4.2 程序在哪里? 33 S37Bl5W 4.3 数据文件 35 .T4"+FTzP 4.4 设计规则 35 y\r8_rBo 4.5 材料数据库和资料库 37 tC-(GDGy5 4.5.1材料损失 38 M/R#f9W 4.5.1材料数据库和导入材料 39 2-]gHAw% 4.5.2 材料库 41 UiaY0 .D 4.5.3导出材料数据 43 ykX}T6T 4.6 常用单位 43 Mq6.!j 4.7 插值和外推法 46 gWgYZX 4.8 材料数据的平滑 50 Zpl?zI 4.9 更多光学常数模型 54 hpLo 4.10 文档的一般编辑规则 55 (#LV*&K%IC 4.11 撤销和重做 56 'UW7zL5 4.12 设计文档 57 r$R(4q: 4.10.1 公式 58 4vp,izNW 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 jD$T 4.10.3 沉积密度 59 [
ecYpE< 4.10.4 平行和楔形介质 60 " 0K5
/9 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 O2ety2}?f 4.10.4 性能 61 O' A''}M 4.10.5 保存设计和性能 64 FU5vo 4.10.6 默认设计 64 KzI$GU3 4.11 图表 64 vr=iG
xD 4.11.1 合并曲线图 67 w*$nG$ 4.11.2 自适应绘制 68 7cY_=X-?Y 4.11.3 动态绘图 68 +Rxf~m(pV 4.11.4 3D绘图 69 7PHvsd"]p 4.12 导入和导出 73 .2[>SI 4.12.1 剪贴板 73 K=+w,H#`C 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 B5zu?AG 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 6hAeLlU1 4.13 背景 77 c i_XcG 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 HQ ^> ~ 4.15 生成Rugate 84 nWmc 4.16 参考文献 91 )MmMs"Um 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 :}o0Eb 5.1 Jobs 92 u5$\E]+_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 WI](a8bm 5.3 输入材料 94 }g5h"N\$o 5.4 设计数据文件夹 95 lmQ!q>N 5.5 默认设计 95 FzA_-d/_dg 6 细化和合成 97 kO~xE-(= 6.1 优化介绍 97 Pm%ZzU 6.2 细化 (Refinement) 98 ZTMzL%i 6.3 合成 (Synthesis) 100 P_,f 6.4 目标和评价函数 101 HiILJyb 6.4.1 目标输入 102 W^60BZ 6.4.2 目标 103 o/2\8 6.4.3 特殊的评价函数 104 eIg '
!8h? 6.5 层锁定和连接 104 9k& lq$ 6.6 细化技术 104 Xr6lYO _R 6.6.1 单纯形 105 'O
\YL(j_e 6.6.1.1 单纯形参数 106 ('OPW&fRG 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ?U iwr{Q 6.6.2.1 Optimac参数 108 ov*zQP 6.6.3 模拟退火算法 109 ,BOB &u 6.6.3.1 模拟退火参数 109 = 14'R4: 6.6.4 共轭梯度 111 >.\G/'\? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <!-8g! 6.6.5 拟牛顿法 112 s|"V$/X(W 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 qs\
&C 6.6.6 针合成 113 =@G#c5H* 6.6.6.1 针合成参数 114 Ajs<a(,6 6.6.7 差分进化 114 It(8s)5 6.6.8非局部细化 115 uy~5!i& 6.6.8.1非局部细化参数 115
&5O 6.7 我应该使用哪种技术? 116 LV4x9?& 6.7.1 细化 116 Q^b_+M 6.7.2 合成 117 k_-=:(Z 6.8 参考文献 117 f/eT4y 7 导纳图及其他工具 118 /^P^K 7.1 简介 118 S%kE<M? 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 05=O5<l
7.2.1 四分之一波长规则 119 J55K+ 7.2.2 导纳图 120 f?2Y np=@ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 G5kM0vs6L 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 E)09M%fe 7.5 斜入射导纳图 141 w`c9_V 7.6 对称周期 141 J=Ak+J 7.7 参考文献 142 9K Ih}Q@P 8 典型的镀膜实例 143 & |