-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-11-13
- 在线时间2001小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
q
u:To7 内容简介 F '#^`G9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 _ _=s' 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 lWlUWhLnP 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 xPvRQ ;o%:7& 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ) MBS 目录 j ]HE> Preface 1 p5`ZyD]+ 内容简介 2 u#VweXyU 目录 i 2+&R"#I 1 引言 1 +_-Y`O!Q 2 光学薄膜基础 2
wQw-:f- 2.1 一般规则 2 1<ehV
VP 2.2 正交入射规则 3 9,KVBO 2.3 斜入射规则 6 *JS"(. '( 2.4 精确计算 7 -3`Isv 2.5 相干性 8 (n}%a6M 2.6 参考文献 10 <>&89E%j' 3 Essential Macleod的快速预览 10 NlMQHma 4 Essential Macleod的特点 32 `rq<jtf+ 4.1 容量和局限性 33 7p
!zp 9| 4.2 程序在哪里? 33 @92gb$xT 4.3 数据文件 35 F_ _H(}d 4.4 设计规则 35 jDJ. 4.5 材料数据库和资料库 37 @[0jFjK 4.5.1材料损失 38 VlV)$z_ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 <]c#)xg 4.5.2 材料库 41 !4L#$VG 4.5.3导出材料数据 43 pr)K{~m]{< 4.6 常用单位 43 9Yd-m 4.7 插值和外推法 46 R;.d/U|av 4.8 材料数据的平滑 50 6_Fpca3L 4.9 更多光学常数模型 54 !rz)bd3$ 4.10 文档的一般编辑规则 55 &E`9>&~J 4.11 撤销和重做 56 sD.6"w7} 4.12 设计文档 57 (Q\\Gw 4.10.1 公式 58 -t%L#1k 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 tw]/,>\G 4.10.3 沉积密度 59 bt0djJRw 4.10.4 平行和楔形介质 60 $xQ"PJ2 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 GU5W|bS 4.10.4 性能 61 O<bDU0s{M 4.10.5 保存设计和性能 64 G1p43 4.10.6 默认设计 64 E+:.IuXW$ 4.11 图表 64 2h5tBEOX.s 4.11.1 合并曲线图 67 )< l\jfx e 4.11.2 自适应绘制 68 ~DK F%}E 4.11.3 动态绘图 68 /5jKX 5r 4.11.4 3D绘图 69 jjYM3LQcdP 4.12 导入和导出 73 |}%(6< 4.12.1 剪贴板 73 >QA/Mi~R 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 HqB|SWyK 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 9N<*S'Z 4.13 背景 77 Q;=6ag' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 *ZX!EjICk 4.15 生成Rugate 84 R9bhC9NP 4.16 参考文献 91 5Zzr5WM 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^P]?3U\nj 5.1 Jobs 92 R&]c"cO L8 5.2 创建一个新Job(工作) 93 jGJ.Pvc>i 5.3 输入材料 94 Jk%'mEGE 5.4 设计数据文件夹 95 (y%%6#bd 5.5 默认设计 95 ip<15;Z 6 细化和合成 97 =rtS#u
Y 6.1 优化介绍 97 H\ {E%7^h- 6.2 细化 (Refinement) 98 ;HR 6X 6.3 合成 (Synthesis) 100 bkxk
i@t 6.4 目标和评价函数 101 .@fK;/OuC 6.4.1 目标输入 102 h=!M6yap< 6.4.2 目标 103 GJ.kkTMT 6.4.3 特殊的评价函数 104 |*Of^IkG0 6.5 层锁定和连接 104 a$~IQ2$|6 6.6 细化技术 104 nMTLD 6.6.1 单纯形 105 pCz@(:0 6.6.1.1 单纯形参数 106 ,LoMt ]H 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 |if~i;VKL 6.6.2.1 Optimac参数 108 B>{|'z?%> 6.6.3 模拟退火算法 109 _{[k[] 6.6.3.1 模拟退火参数 109 XulaPq 6.6.4 共轭梯度 111 iTj"lA 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 BhOXXa{B 6.6.5 拟牛顿法 112 ~8XX3+]z:X 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 pp*bqY 6.6.6 针合成 113 hTlnw[I 6.6.6.1 针合成参数 114 Y')O>C0~ 6.6.7 差分进化 114 dDsjPM;2 6.6.8非局部细化 115 :D<:N*9i 6.6.8.1非局部细化参数 115 _!CK 6.7 我应该使用哪种技术? 116 SPfD2%jjC 6.7.1 细化 116
#;5[('&[ 6.7.2 合成 117 IXbdS9,>F 6.8 参考文献 117 ZMdM_i? 7 导纳图及其他工具 118 =Jsg{vI 7.1 简介 118 D?iy.Dg 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Uuwq7oFub 7.2.1 四分之一波长规则 119 PN1(j| 7.2.2 导纳图 120 NvQY7C 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 CP c" 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 6V.awg, 7.5 斜入射导纳图 141 +io;K]C 7.6 对称周期 141 7JxE|G 7.7 参考文献 142 S4#A#a2J 8 典型的镀膜实例 143 &&]"Y!r - 8.1 单层抗反射薄膜 145 8O"x;3I9 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 f28gE7Y\a 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %E4$ZPSW 8.4 W-膜层 148 3X88x-3 8.5 V-膜层 149 \e`6=Q% 8.6 V-膜层高折射基底 150 7xLo4 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ZcUh[5:| 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 c%q}"Y0oh 8.9 四层抗反射薄膜 153
7yMieUF 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 DBu)xr}7A 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Zp/qs
z(] 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 K[iY{ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 g\
8#:@at 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 &Iv\jhq
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Ma` 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ()+jrrK 8.17 1/4波长堆栈 162 E[SV*1) 8.18 陷波滤波器 163 3EbnZb 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 0C7thl{Dms 8.20 褶皱 165 *b$z6. 8.21 消偏振分光器1 169 W+#}~2&Dv 8.22 消偏振分光器2 171 UPfFT^=y 8.23 消偏振立体分光器 172 qP7&Lt |