-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-28
- 在线时间1922小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
(Bb5?fw 内容简介 a@K%06A;' Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |u% )gk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 d UE,U= 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 *uRBzO} r.=K~A 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 6?gW-1mY 目录 AEI>\Y Preface 1 H064BM 内容简介 2 'T;P;:!\ 目录 i ,$L4dF3 1 引言 1 s*KhF'fN 2 光学薄膜基础 2 kOrZv,qFG[ 2.1 一般规则 2 ah$b[\#C 2.2 正交入射规则 3 3PWL@>zi 2.3 斜入射规则 6 IVnHf_PzF 2.4 精确计算 7
IZ-1c1
2.5 相干性 8 +zN-!5x 2.6 参考文献 10 m,_Z6=I: 3 Essential Macleod的快速预览 10 \[i1JG 4 Essential Macleod的特点 32 =+-UJo5 4.1 容量和局限性 33 F@jZ ho 4.2 程序在哪里? 33 PcMD])Z{G 4.3 数据文件 35 r| wS<cA2 4.4 设计规则 35 ;6
D@A 4.5 材料数据库和资料库 37 QD&`^(X1p 4.5.1材料损失 38 ~8Fk(E_ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 )gUR@V>e2 4.5.2 材料库 41 :A_@,Q 4.5.3导出材料数据 43 =_*Zn(>t` 4.6 常用单位 43 ?3`UbN: 4.7 插值和外推法 46 Y=?3 js?O 4.8 材料数据的平滑 50 Xf]d. : 4.9 更多光学常数模型 54 x_Y!5yg
E 4.10 文档的一般编辑规则 55 :uS\3toj 4.11 撤销和重做 56 CI0C1/:@ 4.12 设计文档 57 @+2=g WH 4.10.1 公式 58 r.&Vw|*> 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 BsDn5\q 4.10.3 沉积密度 59 a$OE0zn` 4.10.4 平行和楔形介质 60 A2Ed0|B y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 3BJ0S.TF 4.10.4 性能 61 M#6W(|V/ 4.10.5 保存设计和性能 64 wH&!W~M
4.10.6 默认设计 64 2 c{34: 4.11 图表 64 %3-y[f 4.11.1 合并曲线图 67 .f2bNnB~pP 4.11.2 自适应绘制 68 cd_yzpL@}J 4.11.3 动态绘图 68 dt]-,Y
4.11.4 3D绘图 69 7t0=[i 4.12 导入和导出 73 ]y'>=a|T 4.12.1 剪贴板 73 b94DJzL1z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 $szqy?i0? 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 3z?> j] 4.13 背景 77
Do7Tj 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 I; |B.j 4.15 生成Rugate 84 }@+0/W?\. 4.16 参考文献 91 Qbn"=n2 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ;bib/ 5.1 Jobs 92 7(8;to6( 5.2 创建一个新Job(工作) 93 5c0 ZRV# 5.3 输入材料 94 ASySiHz 5.4 设计数据文件夹 95 t\,PB{P:J 5.5 默认设计 95 ZhaP2pC%4 6 细化和合成 97 ,!y$qVg'\f 6.1 优化介绍 97 KwSqKI7]0 6.2 细化 (Refinement) 98 4F'LBS]=0 6.3 合成 (Synthesis) 100 WPMSm<[ 6.4 目标和评价函数 101 1};Stai'
6.4.1 目标输入 102 <0&*9ZeD 6.4.2 目标 103 'Aq{UGN 6.4.3 特殊的评价函数 104 6ojo :-%Vf 6.5 层锁定和连接 104 IueFx u 6.6 细化技术 104 J @1!Oq> 6.6.1 单纯形 105 .}TZxla0Zr 6.6.1.1 单纯形参数 106 cf20.F{< 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ]MitOkX 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?mxMk6w 6.6.3 模拟退火算法 109 K`zdc`/ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 9IfmW^0 6.6.4 共轭梯度 111 0gr/<v 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 YkKi|k 6.6.5 拟牛顿法 112 { @{']Y 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 MaQqs= 6.6.6 针合成 113 *H2r@)Y[~ 6.6.6.1 针合成参数 114 {qJ1ko)$ 6.6.7 差分进化 114 37.S\gO] 6.6.8非局部细化 115 F_{Yo?_ 6.6.8.1非局部细化参数 115 Zt{[*~ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 WO>nIo5Y 6.7.1 细化 116 ,j_i?Ff 6.7.2 合成 117 $>eCqC3 6.8 参考文献 117 c]o'xd,T8\ 7 导纳图及其他工具 118 <^jQo<kU 7.1 简介 118 /{n-Y/jp 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 vw/J8' 7.2.1 四分之一波长规则 119 (vJNHY M 7.2.2 导纳图 120 {ROVvs` 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }V`"s^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ]Q3ADh 7.5 斜入射导纳图 141 p%=u#QNi 7.6 对称周期 141 :J&oX
<nF^ 7.7 参考文献 142 'S&zCTX7j 8 典型的镀膜实例 143 A]oV"`f 8.1 单层抗反射薄膜 145 Moza".fiN 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 []1C$.5DD 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 V6X 0^g 8.4 W-膜层 148 .?sx&2R2 8.5 V-膜层 149 mNTzUoZF'@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 qqY"*uJ' 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 N5
6g+,w%) 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 iz PDd{[ 8.9 四层抗反射薄膜 153 Y]2A&0 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 N<VJ(20y 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ?NsW|w_ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 })Vi 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 xY(*.T9K 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 0GCEqQy8 8.15十五层宽带抗反射膜 159 xfe+n$~ c 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 &B1Wt |