d,Cz-.'sOf 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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J ?ztn "ib K1}- 建模任务 s6uF5]M;2
g[#k.CuP
zB#_:(1qK .)iO Du 入射平面波
jw/'*e 波长 2.08 nm
'[>\N4WD 光斑直径: 3mm
FF%\gJ 沿x方向线偏振
U6c)"^\ G0I~&?nDa 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
.mvB99P{< 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
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nPqL z>cIiprX 概览 tMxsR>sH •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
pT("2:)x •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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TqS2!/jp 光线追迹模拟 Y
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
"%{,T •点击Go!
RDUT3H6~ •获得3D光线追迹结果。
E|HSwTHe 5~@?>)TBv
vC)"*wYB{ OZ(Dpx(Q 光线追迹模拟 '8s>rH5[V •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
jMN)?6$= •单击Go!
,9=gVW{ •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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fA"<MslKLK #,@bxsB 光场追迹模拟 ~'NX~<m •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
1S+;ZMk •单击Go!
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8{R&EijC S4L-/<s[* 光场追迹结果(照相机探测器) ;c1relR2 F(d:t! •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
TG1P=g5h •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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8V6=i'GK A/!<kp{S 光场追迹结果(电磁场探测器) y&1%1 #8F 7e1dEgn •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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