5e LPn 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
pi{ahuI#_o 3YRzBf:h 
U_~~ PCi a~|ge9?
( 建模任务 #n"/9%35f`
)'g vaT
%'HUC>ChN 3:( `#YY 入射平面波
6>Cubb> 波长 2.08 nm
>gE_?%a[ 光斑直径： 3mm
]VME`]t` 沿x方向线偏振
Bz{
g4!ku -*A'6%` 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
Q'VS]n 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
cPbz7 xlLS` 概览 D/WS •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
OOCeZ3yF( •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
DbN'b(+ 4=Ey\Px 
NP8TF*5V 光线追迹模拟 x _K% •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
]`prDw' •点击Go！
[XXN0+ / •获得3D光线追迹结果。
y6/X!+3+ d
eg>m?Y 
v,&2 !Zv 8=~>B@' 光线追迹模拟 !UTJ) & •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
Ie"R,,c •单击Go！
zTLn*? •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
[/G;XHL;? )a\h5nQI) 
* -_Np u6 &}O!l' 光场追迹模拟 .KN]a"] •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
}El_.@'T & •单击Go！
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N+5 ^h(~ 16|S 0 ) 光场追迹结果（照相机探测器） ~ \ f^L?m w>u Z$/ •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
0K ?(xB •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
7VcVI? ? Q\L5ZJ%y/ 
SK52.xXJ gQWX < 光场追迹结果（电磁场探测器） ;Oy>-Ij5P / JB4 #i7 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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