SLjSNuOP 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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<#H5/Tq 建模任务 &<$YR~g5j$
}HLV'^"k
d3&l!DoX *Hed^[sO 入射平面波
X775j"<d 波长 2.08 nm
9*CJWS; 光斑直径: 3mm
\ ~uY); 沿x方向线偏振
sA:k8aj hMQh?sF/ 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
q6AL}9]9 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
)ad6>Y :&\^r=D 概览 Cp!Qd e •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
x~n]r[!L •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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lCxPR'C| 光线追迹模拟 2E_d$nsJ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
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;xwtS •点击Go!
g'<ekY+V: •获得3D光线追迹结果。
jImw_Q ODyKS;
oBI@.&tG} ]]!&>tOlI 光线追迹模拟 jrLV \(p •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
Jknit •单击Go!
'E_~> •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
Tp&7CNl| $Y=xu2u)
Ek,$XH }U_z XuUz 光场追迹模拟 uK5 C- •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
z3C@0v=u> •单击Go!
l<dtc[ V4tObZP3Ff
K/IG6s;Xj S0jYk ( 光场追迹结果(照相机探测器) V)#rP?Y =P7!6V\f •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
%Z!3[.%F •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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m={TBV,L uj^l&" 光场追迹结果(电磁场探测器) GQ])y ~pG,|\9 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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