,wHlU-% 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
Y9%zo~]-W' X)c0y3hk
b"w2 2% :g-vy9vb 建模任务 AvuGAlP
f,3K;S-he:
g( S4i%\ 'g}Q@@b 入射平面波
YW8Odm 波长 2.08 nm
K!-iDaVI 光斑直径: 3mm
Y]B9*^d< 沿x方向线偏振
=^zOM6E1ZF ,W_".aguX 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
bQu@.'O!k 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
0f5)] C
[8='i26 概览 _PP-'^ U •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
'X_%m~}N •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
Go~3L8
' '(3|hh)Tl
\#"&S@%c 光线追迹模拟 KJV],6d •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
`#j;\ •点击Go!
3YEw7GIO- •获得3D光线追迹结果。
H^$7= Ik=bgEF
,twm)%caU f4|ir3oy 光线追迹模拟 1ZWr@,\L •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
}\W^$e- •单击Go!
o'YK\L!p •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
UGA``;f T@r%~z
'W~6-c9y @4]dv> Z 光场追迹模拟 XIp>PcU^ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
ksAu=X: •单击Go!
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,sp( (SF]1 4z qO!nk 光场追迹结果(照相机探测器) [R/'hH5 d{]2Q9g •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
:8lqo%5 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
h$ $i@IO0 X@:@1+U
uCf _O~ e:n3@T,R 光场追迹结果(电磁场探测器) b5^-qc6X WiF6*]oI •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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