A L|fL 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
_9n.ir5YX SF_kap%JM 
)>\Ne ~% S}Mxm 2 建模任务 AZl=w`;/O%
7%7_i%6wP
|:!0`p{R &OI=r vDmo 入射平面波
z[t$[Q g 波长 2.08 nm
-D!F|&$ 光斑直径： 3mm
Kq{s^G 沿x方向线偏振
W!tP sPM |{ 9"n<JW 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
O)9T|,
U 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
@Wx_4LOhf d=>5%$:v 概览 :hMuxHr •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
:~T:&;q0 •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
W:5m8aE\ y|MW-|0=! 
:eIB K 光线追迹模拟 e'\I^'`!M •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
%{}Jr` •点击Go！
ny=CtU!z •获得3D光线追迹结果。
1Eg}qU,: } Bc6:a 
Wb4sfP_ m%Ef]({I 光线追迹模拟 Pi8U}lG; •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
iicrRGp3 •单击Go！
zb;' }l;+ •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
wh*OD (b{
{B$O 
2iH ,U ,Y`C7Px 光场追迹模拟 8tdUnh%/ •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
QGLm4 Wl9 •单击Go！
-TD6s:' @#T?SNIL5 
`E|IMUB~ +i)1 jX< 光场追迹结果（照相机探测器） Y^ 6=_^ ^
1J;SO| •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
W
B!$qie\ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
.qVdo+M%F gH_r'j 
@x=CMF15 R#T 6I i 光场追迹结果（电磁场探测器） M.IV{gj QY^ y(I49 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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SA/0Z = <= 7p~
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