)ZyuF(C& 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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8A u<\~p T KL(97)< 建模任务 ]J=)pDrk
gs8@b5 RSb
GiO#1gA Rn_W|" 入射平面波
D)7$M]d% 波长 2.08 nm
]l7\Zq 光斑直径: 3mm
wK`ieHmp 沿x方向线偏振
02#Iip3t rIfGmh%H 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
m&~Dj#%(w 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
[Pc[{( fy>And* 概览 jP.b oj_u* •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
a:^Gr% •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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nC.2./OwMf 光线追迹模拟 ;(0$~O$3u •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
F@'rP++4 •点击Go!
#iU8hUbo •获得3D光线追迹结果。
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P,Zqd "~2#!bK7
P^<0d'( "zIq)PY 光线追迹模拟 -YjgS/g •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
4zfRD`; •单击Go!
Ar7mH4M •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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K*8# 光场追迹模拟 ssyd8LC# •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
SM#S/|.] •单击Go!
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Li-(p" G!VF*yW8 光场追迹结果(照相机探测器) 2
ssj(Qo %::deV7 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
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O46~ •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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e_~fJ ^?7dOW 光场追迹结果(电磁场探测器) M |({
4C <k\H`P •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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