6<{XwmM 高数值
孔径的
物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在
仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。
VirtualLab可以支持此类
透镜的
光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。
相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。
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2b^E8+r9 %WAaoR&u 建模任务 QM4O|x[
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a}5/?/ 概述 U}^`R,C yL"UBe}v •案例
系统已预先设置了高数值孔径物镜。
"eZ~]m}L0 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
%{ +>\0x Da&Brm
0^mCj<g C1po]Ott* 光线追迹仿真 jWcfQ zr^"zcfz& •首先选择“光线追迹系统分析器”作为
模拟引擎。
@ w?,7i-S •单击go!
{q.|UCg[L •获得了3D光线追迹结果。
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t 4>\; n7(/ml+Q_ 光线追迹仿真 iPdR;O' mG.H=iw •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。
3B?7h/f •单击go!
E3QyiW •结果得到点图(二维光线追迹结果)。
`{ ` W-C .F/0:)
QR{>]I iE,/x^&,& 场追迹仿真 CM4#Nn=i~ rHJtNN8$k •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。
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[1g sjG@4Or 场追迹仿真(相机探测器) !]l;n
Fd e7M6|6nb •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。
}E#1Z\) •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。
$\q}A: |C}= 1
_l=X?/ ]^I[SG, 场追迹仿真(电磁场探测器) B~47mw&b •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
} T&~DVM 2!?=I'uMA
Y;#H0v>E =PYS5\k 场追迹仿真(电磁场探测器) wkKSL Cp^`-=r+ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。
M s Q=1 >(C5&3^