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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-11-22
    hLSas#B>  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 Q[%+y.  
    "&TN}SBW  
    d+6-ten  
         MM/D5g  
    建模任务 KZsJ_t++!W  
    lT- LOu|  
    ARJ}h  
    概述 &_<!zJ;Hn  
    8(GJz ~y  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 5uvFCY./c  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 Cq%1j[  
    w;DRC5V>  
    =8 Jq'-da  
    I(0 *cWO  
    光线追迹仿真 OR-fC  
    FP h1}qS  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 9d >AnTf&H  
    •单击go! ,gbQqoLV  
    •获得了3D光线追迹结果。 i{nFk',xX  
    R(cM4T.a  
    uY$BZEuAZ  
    JQ"w{O  
    光线追迹仿真 =bl6:  
    47^R  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 fpPHw)dTd  
    •单击go! J4^aD;j  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 A{KF<Omu  
    ~V!gHJ5M  
    q5ja \  
    YhFd0A?]  
    场追迹仿真 l]__!X  
    GMYfcZ/,K  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 g/e2t=qP  
    •单击go! fg0zD:@rA  
    +G?nmXG[vj  
    @vkO(o  
         |qX[Dk  
    场追迹仿真(相机探测器) uO}UvMW  
    ! 6: X]  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ,e5#wz  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 :]k`;;vh  
    8k -l`O~  
    V /,F6  
    -k"5GUc|  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ?*2Uw{~}  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 8UN7(J  
    K&>+<bJ_  
    {S5H H"  
         7C@%1kL  
    场追迹仿真(电磁场探测器) O7D61~G]  
    z,q1TU9  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Ij9ezNZT=  
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