-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-12
- 在线时间1894小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
]x<`( G<f"_NT 内容简介 1deNrmp% Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ,j|9Bs 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 >nA6w$
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6}aH>(3!A 讯技科技股份有限公司 ~Vf+@_G8`
P.Uz[_&l6 5C&]YT3) 目录 _Boe" Preface 1 p[Yja y+ 内容简介 2 _T)G?iv:& 目录 i %:~LU]KX 1 引言 1 (ev(~Wc 2 光学薄膜基础 2 Z F&aV? 2.1 一般规则 2 pf'-(W+ 2.2 正交入射规则 3 wf[B -2q) 2.3 斜入射规则 6 M*x1{g C/ 2.4 精确计算 7 /^F$cQX( 2.5 相干性 8 O^W.5SaR 2.6 参考文献 10 ;#F7Fp *U 3 Essential Macleod的快速预览 10 X\dPQwasM 4 Essential Macleod的特点 32 5`?'}_[Yj 4.1 容量和局限性 33 Aa#WhF 4.2 程序在哪里? 33 ?h*Ngbj> 4.3 数据文件 35 0s#`H 4.4 设计规则 35 j>KJgSs]&\ 4.5 材料数据库和资料库 37 as%ab[ fX 4.5.1材料损失 38 Gj%cU@2 4.5.1材料数据库和导入材料 39 %Gk?f=e 4.5.2 材料库 41 ^3B&E^R 4.5.3导出材料数据 43 $B3<" 4.6 常用单位 43 (4WAoye | 4.7 插值和外推法 46 L9Gxqw 4.8 材料数据的平滑 50 HpD<NVu 4.9 更多光学常数模型 54 V&75n.L 4.10 文档的一般编辑规则 55 :XP/ `%: 4.11 撤销和重做 56 \k69 S/O 4.12 设计文档 57 p[zKc2 TPk 4.10.1 公式 58 37SbF,G 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0 kM4\En 4.10.3 沉积密度 59 86BY032H 4.10.4 平行和楔形介质 60 e[(XR_EY 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 G; *jL4 4.10.4 性能 61 .P|_C.3-l 4.10.5 保存设计和性能 64 yG`J3++
S 4.10.6 默认设计 64 /4}B}"`Sl= 4.11 图表 64 P&s-U6 4.11.1 合并曲线图 67 dV( "g], 4.11.2 自适应绘制 68 XIAHUT5~J 4.11.3 动态绘图 68 aB N^J_ 4.11.4 3D绘图 69 1@}`dc 4.12 导入和导出 73 ?Bdhn{_ 4.12.1 剪贴板 73 Br,^4w[Hq 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 /ehmy(zL 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 122%KS 4.13 背景 77 i`Tp +e@a> 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 (rHS2SA\5 4.15 生成Rugate 84 <h*r 4.16 参考文献 91 #'@pL0dj 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 -
DO 5.1 Jobs 92 jOYa}jm? 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ~q.a<B`,t 5.3 输入材料 94 ( 2oP=9m 5.4 设计数据文件夹 95 lD%Fk3 5.5 默认设计 95 GbLuXU 6 细化和合成 97 94>EA/+Ek 6.1 优化介绍 97 xejQ!MAB 6.2 细化 (Refinement) 98 w6RB|^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 7j
]d{lD 6.4 目标和评价函数 101 \%qzTk.&r 6.4.1 目标输入 102 nkp, 6.4.2 目标 103 8$+mST'4N 6.4.3 特殊的评价函数 104 g p2S 6.5 层锁定和连接 104 wc%Wy|d 6.6 细化技术 104 Q(3Na 6 6.6.1 单纯形 105 _5nS!CN 6.6.1.1 单纯形参数 106 7<T1#~w4L 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 =Ts3O0"[ 6.6.2.1 Optimac参数 108 )tq&l>0h 6.6.3 模拟退火算法 109 %|tDb 6.6.3.1 模拟退火参数 109 G<2OL#Y- 6.6.4 共轭梯度 111 %z0;77[1 I 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 [dQL6k";b 6.6.5 拟牛顿法 112 &^v5 x" 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 kkyi`_ZKn 6.6.6 针合成 113
?)_?YLi 6.6.6.1 针合成参数 114 ;V=Y#|o 6.6.7 差分进化 114 5Hli@:B2s 6.6.8非局部细化 115 ]f3[I3;K 6.6.8.1非局部细化参数 115 5a`f%
h% 6.7 我应该使用哪种技术? 116 p>g5WebBN 6.7.1 细化 116 |2$wJ$I 6.7.2 合成 117 Cggu#//Z}Q 6.8 参考文献 117 {CO]wqEj 7 导纳图及其他工具 118 + Z7 L&BI 7.1 简介 118 O ;34~k
7.2 薄膜作为导纳的变换 118 /tG0"1{ 7.2.1 四分之一波长规则 119
_i/x4,=xv 7.2.2 导纳图 120 P1r)n{; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 r@O5{V 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 nRE(RbRe 7.5 斜入射导纳图 141 tRl01&0S 7.6 对称周期 141 wX!q dII) 7.7 参考文献 142 nmH1Wg*aW 8 典型的镀膜实例 143 4R(H@p%+r2 8.1 单层抗反射薄膜 145 THVF(M4v 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 sbju3nvk 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 q)m0n237P 8.4 W-膜层 148 Y-&SZI4H 8.5 V-膜层 149 ccdP}|9e 8.6 V-膜层高折射基底 150 ?g6xy[ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 a_GnN\kX^Z 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 pL&
Zcpx 8.9 四层抗反射薄膜 153 nT;Rwz$3 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 KBe\)Vs 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 DL t "cAW 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ,:E*Mw: 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 A=PJg! 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 sa7F-XM 8.15十五层宽带抗反射膜 159 G2 E4 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 -->~<o 8.17 1/4波长堆栈 162 Un~8N 8.18 陷波滤波器 163 m\0Xh* 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 5}+&Em": 8.20 褶皱 165 v!>(1ROQ.= 8.21 消偏振分光器1 169 #Ns]l< 8.22 消偏振分光器2 171 *\n-yx] 8.23 消偏振立体分光器 172 |#Gug(' 8.24 消偏振截止滤光片 173 0E< |