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<!~NG3KW[> ET~^P 内容简介 :j;_Xw Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 hDTM\>.c;s 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 N<aMUV m 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 3O?[Yhk`. 讯技科技股份有限公司 2| ERif;)
,)t/1oQ}>^ '\Uy;,tu / 目录 kBrU%[0O Preface 1 Bvz&
p)( 内容简介 2 ^W[3RiG 目录 i ~4ysg[` 1 引言 1 dijHi 2 光学薄膜基础 2 U5H5QW + 2.1 一般规则 2 VOrBNu 2.2 正交入射规则 3 2?c%<_jPA 2.3 斜入射规则 6 h%U,g
9_ 2.4 精确计算 7 c.;<+dYsm* 2.5 相干性 8 "'U]4Z%q! 2.6 参考文献 10 Yr 1k\q 3 Essential Macleod的快速预览 10 4,7W*mr3( 4 Essential Macleod的特点 32 WL1$LLzN 4.1 容量和局限性 33 :n$?wp 4.2 程序在哪里? 33 O[HBw~ 4.3 数据文件 35 7^Y`'~Y^ 4.4 设计规则 35 c4FU@^Vv 4.5 材料数据库和资料库 37 Zex`n:Wl?j 4.5.1材料损失 38 Wvwjj~HP2} 4.5.1材料数据库和导入材料 39 wZ~eE'zx+ 4.5.2 材料库 41 wRQMuFGY 4.5.3导出材料数据 43 e&F=w`F\ 4.6 常用单位 43 XM?C7/^k 4.7 插值和外推法 46 L7$1 rO< 4.8 材料数据的平滑 50 )|L#i2?: 4.9 更多光学常数模型 54 Yq-7! 4.10 文档的一般编辑规则 55 MF4B 2d 4.11 撤销和重做 56 Cg%}= 4.12 设计文档 57 2M?L++i 4.10.1 公式 58 %CG=mTP 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 8\e8$y3 4.10.3 沉积密度 59 p(S {k]ZL@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 3>buZ6vh 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 2I1CKA:7g 4.10.4 性能 61 k\lU
Q\/O5 4.10.5 保存设计和性能 64 5t[7taLX\ 4.10.6 默认设计 64 QhmOO-Z? 4.11 图表 64 -^= JKd&p 4.11.1 合并曲线图 67 <|4L+?_(& 4.11.2 自适应绘制 68 `Bv, :i 4.11.3 动态绘图 68 +cx(Q(HD\ 4.11.4 3D绘图 69 K7]IAV 4.12 导入和导出 73 .7MLgC; 4.12.1 剪贴板 73 7>yb8/J 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 R ;3!?` 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 RV, cQ K 4.13 背景 77 u#v];6N 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 , @dhJ8/ 4.15 生成Rugate 84 #l-/!j 4.16 参考文献 91 17B` 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 km9@*@) 5.1 Jobs 92 Mg=R**s1x% 5.2 创建一个新Job(工作) 93 teg[l-R"7z 5.3 输入材料 94 x.aqy'/` 5.4 设计数据文件夹 95 wlfq$h p 5.5 默认设计 95 F=~LVaF/_ 6 细化和合成 97 y'U-y"7y 6.1 优化介绍 97 !jyy`q= 6.2 细化 (Refinement) 98 k= oCpXq^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 =FXq=x%9+ 6.4 目标和评价函数 101 ' |
bHu 6.4.1 目标输入 102 PgwNE wG 6.4.2 目标 103 OiMr, 6.4.3 特殊的评价函数 104 a3[lZPQe 6.5 层锁定和连接 104 @y{
f>nm 6.6 细化技术 104 \-R\xL 6.6.1 单纯形 105 ~MLBO 6.6.1.1 单纯形参数 106 E sx`UG| 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3B[u2o> 6.6.2.1 Optimac参数 108 HWi: CDgm 6.6.3 模拟退火算法 109 .vhEm6wJUM 6.6.3.1 模拟退火参数 109 t Ai?B jo 6.6.4 共轭梯度 111 eAbp5}B 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 G;v3kGn 6.6.5 拟牛顿法 112
=U+_;;F= 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 )>8 k8E 6.6.6 针合成 113 uw9w{3]0f 6.6.6.1 针合成参数 114 lxXIu8 6.6.7 差分进化 114 1ppU
?# 6.6.8非局部细化 115 VfJdCg_ 6.6.8.1非局部细化参数 115 5{O9<~, 6.7 我应该使用哪种技术? 116 5WU?Km 6.7.1 细化 116 >'2=3L^Q 6.7.2 合成 117 nTxN>?l2E 6.8 参考文献 117 [p&2k&.XYe 7 导纳图及其他工具 118 C9"yu&l 7.1 简介 118 \4roM1&[
7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e[*%tx H 7.2.1 四分之一波长规则 119 b?%Pa\,! 7.2.2 导纳图 120 )5U2-g#U 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R:t 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 -JfO} DRI 7.5 斜入射导纳图 141 'v'=t<wgl 7.6 对称周期 141 E _j=v
\ 7.7 参考文献 142 9Ts r g 8 典型的镀膜实例 143 &xMQ 8.1 单层抗反射薄膜 145 } {<L< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #i0f}& 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Jqgo\r%` 8.4 W-膜层 148 &Y|AX2KUC 8.5 V-膜层 149 dn|OY.`| 8.6 V-膜层高折射基底 150 6V6,m4e 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 D}A>`6W< |