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U#gv ~)\k ,!I'0x1OR 内容简介 6>e YG<y{ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 y&(R1Y75 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
JQO%-=t 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 :G/.h[\R| 讯技科技股份有限公司 'kE^oX_
^(.utO *{%d{x}l 目录
1k39KO@ Preface 1 LQ'VhNU 内容简介 2 fs3jPHZJ# 目录 i ];7/DM#Np 1 引言 1 48W-Tf6v| 2 光学薄膜基础 2 (cpaMn@)g 2.1 一般规则 2 V+dFL9 2.2 正交入射规则 3 15U[F0b 2.3 斜入射规则 6 Q%Y rm 2.4 精确计算 7 !1{kG%B= 2.5 相干性 8 QVJvuiUh 2.6 参考文献 10 I/Q5Y- atg 3 Essential Macleod的快速预览 10 1v"r8=Wt 4 Essential Macleod的特点 32 c
;@k\6 4.1 容量和局限性 33 2I
qvd 4.2 程序在哪里? 33 <CM}g4Y 4.3 数据文件 35 9xZ?}S:d 4.4 设计规则 35 C+<z;9` 4.5 材料数据库和资料库 37 P6([[mmG 4.5.1材料损失 38 r<XlIi 4.5.1材料数据库和导入材料 39 lk. ; 4.5.2 材料库 41 c:f++|| 4.5.3导出材料数据 43 QU%'z/dip 4.6 常用单位 43 U.0bbr 4.7 插值和外推法 46 z ;KUIWg 4.8 材料数据的平滑 50 }RPeAcbU_ 4.9 更多光学常数模型 54 J6m(\o 4.10 文档的一般编辑规则 55 B'`
jdyaE9 4.11 撤销和重做 56 8C4=f
4.12 设计文档 57 .|Bmg6g* 4.10.1 公式 58 HZ.Jc"+M 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /c9%|<O% 4.10.3 沉积密度 59
l6uUS 4.10.4 平行和楔形介质 60 Pln*?o 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 q oJ4w7 4.10.4 性能 61 $v*0\O 4.10.5 保存设计和性能 64 YkqauyV^ 4.10.6 默认设计 64 ZPolE_P7 4.11 图表 64 y+ZCuX 4.11.1 合并曲线图 67 z,#3YC{' 4.11.2 自适应绘制 68 2xJT!lN 4.11.3 动态绘图 68 !YJ^BI 4.11.4 3D绘图 69 gbc])`aJ> 4.12 导入和导出 73 .wv!; 4.12.1 剪贴板 73 zMI0W&P M 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 !s:v UY58 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 avI 4.13 背景 77 dS[="Set 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 .1 =8c\% 4.15 生成Rugate 84 g
:Z,
ab4 4.16 参考文献 91 HxmCKW! 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 S3( 2.c~ 5.1 Jobs 92 *;I F^u1 5.2 创建一个新Job(工作) 93 B hnwb0b< 5.3 输入材料 94 H%\\-Z$# 5.4 设计数据文件夹 95 8;r7ksE~ 5.5 默认设计 95 mp x/~`c 6 细化和合成 97 l8_TeO 6.1 优化介绍 97 A t#'q>Dn 6.2 细化 (Refinement) 98 wc
!
v /A 6.3 合成 (Synthesis) 100 :i24@V~){ 6.4 目标和评价函数 101 |UO&18Y7- 6.4.1 目标输入 102 &3;yho8v@ 6.4.2 目标 103 cLD-,v;c 6.4.3 特殊的评价函数 104 9u\&kQxqD 6.5 层锁定和连接 104 =>7\s}QZ 6.6 细化技术 104 yfD)|lK 6.6.1 单纯形 105 Cq0S8Or0 6.6.1.1 单纯形参数 106 u+RdC;_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 7v~\c%1V 6.6.2.1 Optimac参数 108 .7nr :P 6.6.3 模拟退火算法 109 m ) 2t< 6.6.3.1 模拟退火参数 109 2 #+g4 6.6.4 共轭梯度 111 1wqsGad+; 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 FrNW@ 6.6.5 拟牛顿法 112 [@qUQ,Ie 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ]v^;]0vcr 6.6.6 针合成 113 rl,6ru 6.6.6.1 针合成参数 114 -;?5<>zZ 6.6.7 差分进化 114 M zLx2? 6.6.8非局部细化 115 TZ7{cekQ 6.6.8.1非局部细化参数 115 8 '2lc 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ~!,Q<? 6.7.1 细化 116 O_p:`h:;M 6.7.2 合成 117 `aS9o]t 6.8 参考文献 117 \c! LC4pE 7 导纳图及其他工具 118 ,cvLvN8 7.1 简介 118 QPH2TXw 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <h/\)bPB 7.2.1 四分之一波长规则 119 hr<E%J1k% 7.2.2 导纳图 120 #@m*yJg< |