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[A =0fg5 uT,i& 内容简介 asYk#;z\" Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 _:Xmq&<W 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 *tj(,:! 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }ZVond$y4 讯技科技股份有限公司 cX
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_2G _Io ,on]Fts 目录 7oF3^K'S Preface 1 *]U`]!Esp 内容简介 2 l,h`YIy 目录 i R&(OWF;~, 1 引言 1 ZT!8h$SE: 2 光学薄膜基础 2 +^(_S9CO 2.1 一般规则 2 AA[1[ 2.2 正交入射规则 3 w~v6=^ 2.3 斜入射规则 6 nu+K
N,3R" 2.4 精确计算 7 8WQ#) 2.5 相干性 8 &zy%_U2% 2.6 参考文献 10 Ygk_gBRiC 3 Essential Macleod的快速预览 10 QGfwvFm 4 Essential Macleod的特点 32 E<+ G5j 4.1 容量和局限性 33 8%B_nVc 4.2 程序在哪里? 33 ben-<3r 4.3 数据文件 35 ;]1t|td8 4.4 设计规则 35 %"
bI2 4.5 材料数据库和资料库 37 C8|Ls(4Ck 4.5.1材料损失 38 E{ c+`>CY 4.5.1材料数据库和导入材料 39 \0 h>!u 4.5.2 材料库 41 CA igV$ 4.5.3导出材料数据 43 9k71h`5 4.6 常用单位 43 I"czo9Yspd 4.7 插值和外推法 46 C <:g"F:k 4.8 材料数据的平滑 50 HI|egf@ 4.9 更多光学常数模型 54 <jJ'T?,
4.10 文档的一般编辑规则 55 VC/n}7p 4.11 撤销和重做 56 L @T/4e./ 4.12 设计文档 57 K!CVS7 4.10.1 公式 58 M5:.\0_ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 B(Yg1jAe 4.10.3 沉积密度 59 WMC^G2 n 4.10.4 平行和楔形介质 60 6w &<j&V 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 +I5\`By= 4.10.4 性能 61 I= :yfW 4.10.5 保存设计和性能 64 agwbjkU/ 4.10.6 默认设计 64 ^V; r 4.11 图表 64 &q|vvF<G 4.11.1 合并曲线图 67 j7&#R+f 4.11.2 自适应绘制 68 &_Cc 4.11.3 动态绘图 68 ,YM=?No 4.11.4 3D绘图 69 Wtu-g**KN 4.12 导入和导出 73 Td|,3
n 4.12.1 剪贴板 73 V z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ,X_3#!y 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 i695P}J2 4.13 背景 77 A nl1+ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 JzN "o' 4.15 生成Rugate 84 C{*? 4.16 参考文献 91 %_:L_VD@ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 no-";{c 5.1 Jobs 92
'{cND 5.2 创建一个新Job(工作) 93 KtAEM;g 5.3 输入材料 94 2&S^\kf 5.4 设计数据文件夹 95 c}OveR$'& 5.5 默认设计 95 fsOlg9 6 细化和合成 97 ?yAb=zI1b 6.1 优化介绍 97 &J/!D# 6.2 细化 (Refinement) 98 <fBJ@> 6.3 合成 (Synthesis) 100 e^q^AP+* 6.4 目标和评价函数 101 JQbaD- 6.4.1 目标输入 102 />Zfx. Aj6 6.4.2 目标 103 NaoOgZ? 6.4.3 特殊的评价函数 104 8HLL3H0 6.5 层锁定和连接 104 )2" g)9! 6.6 细化技术 104 m
%+'St|qr 6.6.1 单纯形 105 2UYtEJ(?`{ 6.6.1.1 单纯形参数 106 _s#J\!F 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 AUF[hzA 6.6.2.1 Optimac参数 108 $G0e1)D 6.6.3 模拟退火算法 109 %6fnL~A 6.6.3.1 模拟退火参数 109 -T+YMAFU_ 6.6.4 共轭梯度 111 :f Rta[ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 5D/Td#T04 6.6.5 拟牛顿法 112 AiR#:r 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 6%t6u3 6.6.6 针合成 113 CaCApL 6.6.6.1 针合成参数 114 >j]Gz-wC 6.6.7 差分进化 114 nO6UlY 6.6.8非局部细化 115 #QlxEs#% 6.6.8.1非局部细化参数 115 E5S(1Z}]p{ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 =zAFsRoD_B 6.7.1 细化 116 F6CuY$0m= 6.7.2 合成 117 F',1R"/} 6.8 参考文献 117 p\~ a= 7 导纳图及其他工具 118 2vUcSKG7 7.1 简介 118 &/' O?HWl 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ^`xS|Sq1D 7.2.1 四分之一波长规则 119 Da! fwth 7.2.2 导纳图 120 6& |