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\$gA2r {4)d 内容简介 `$3ktQ $ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gu&W:FY 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 B[t>T>~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 3#eAXIW[ 讯技科技股份有限公司 Tt,T6zs-<
L^K,YlNBR S>jOVWB 目录 D$E#:[ Preface 1 Zqb*-1Qw"* 内容简介 2
OLoo#HW 目录 i }rF4M1+B\ 1 引言 1 $9u:Ox
2 2 光学薄膜基础 2 +{#Z^y6& 2.1 一般规则 2 *w/N>:V0p 2.2 正交入射规则 3 >~tx8aI{ 2.3 斜入射规则 6 '}-QZ$|* 2.4 精确计算 7 at1oxmy 2.5 相干性 8 *e:2iM)8~ 2.6 参考文献 10 XJk~bgO* 3 Essential Macleod的快速预览 10 )19#g1rn5 4 Essential Macleod的特点 32 U8@P/Z9 4.1 容量和局限性 33 !_W']Crb]] 4.2 程序在哪里? 33 "~Zdv}^xS 4.3 数据文件 35 TP)o0U 4.4 设计规则 35 :)FNhx3 4.5 材料数据库和资料库 37 9D;ono3 4.5.1材料损失 38 U/xzl4m6 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :Y4Sdj 4.5.2 材料库 41 Dw
y|mxlFn 4.5.3导出材料数据 43 ezri9\Ju 4.6 常用单位 43 &%eM 4.7 插值和外推法 46 a>+m_]*JZ 4.8 材料数据的平滑 50 GH&5m44 4.9 更多光学常数模型 54 12Fnv/[n'K 4.10 文档的一般编辑规则 55 k L4 # 4.11 撤销和重做 56 s!1/Bm|_T 4.12 设计文档 57 f"^t~q[VS 4.10.1 公式 58 J|HV8 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7e D`
is 4.10.3 沉积密度 59 ;";>7k/} 4.10.4 平行和楔形介质 60 4w]<1V 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ZT`"
{#L 4.10.4 性能 61 p0}Yo8? OW 4.10.5 保存设计和性能 64 =FdFLrx~l 4.10.6 默认设计 64 eKU4"XTk 4.11 图表 64 z]=Ks_7 4.11.1 合并曲线图 67 #MbY+[Y@v 4.11.2 自适应绘制 68 ?}EWfsA 4.11.3 动态绘图 68 P]L%$!g 4.11.4 3D绘图 69 "chf\-!$ 4.12 导入和导出 73 Lmw)Ts> 4.12.1 剪贴板 73 V9%9nR!' 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 u;b 6uE 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 KvI/!hl\ 4.13 背景 77 S(rnVsW%Ki 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wzZ]|
C(vp 4.15 生成Rugate 84 >4HB~9dKU 4.16 参考文献 91 9<"F3F0| 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 U@(8)[?nxn 5.1 Jobs 92 %{me<\( 5.2 创建一个新Job(工作) 93 |C,]-mJ G 5.3 输入材料 94 "u{ymJ]t 5.4 设计数据文件夹 95 ?*<1B 5.5 默认设计 95 %f(4jQ0I 6 细化和合成 97 CurU6x1 6.1 优化介绍 97 h,K&R8S 6.2 细化 (Refinement) 98 cvx"XxE, 6.3 合成 (Synthesis) 100 '%YTMN@ 6.4 目标和评价函数 101 R1.Yx? 6.4.1 目标输入 102 ]n$ v ^ 6.4.2 目标 103 rERtOgi 6.4.3 特殊的评价函数 104 e"Z,!Q^-L 6.5 层锁定和连接 104 w2U]RI\?2 6.6 细化技术 104 a(h@4 x 6.6.1 单纯形 105 DYew6B- 6.6.1.1 单纯形参数 106 O_5;?$[m 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 PC%_^BDW 6.6.2.1 Optimac参数 108 'SIc2H 6.6.3 模拟退火算法 109 j}8^gz] 6.6.3.1 模拟退火参数 109 7'`nTF-@v 6.6.4 共轭梯度 111 77 ?TRC 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 H
'nLC, 6.6.5 拟牛顿法 112 C3 m_sv#e 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 [y<s]C6E 6.6.6 针合成 113 M2.*]AL 6.6.6.1 针合成参数 114 (8em 5 6.6.7 差分进化 114 |6`7kb;p 6.6.8非局部细化 115 nYj7r*e[ 6.6.8.1非局部细化参数 115 9g$fFO 6.7 我应该使用哪种技术? 116 j\.e6&5%SS 6.7.1 细化 116 ~{6}SXp4U 6.7.2 合成 117 *LvdrPxU= 6.8 参考文献 117 cL"Ral-qB 7 导纳图及其他工具 118 paxZlA
o 7.1 简介 118 \;"S>dg 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 T$V8n_; 7.2.1 四分之一波长规则 119 lDs C>L-F 7.2.2 导纳图 120 gX*
&RsF 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 eJEcLK3u 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 uLN.b339 7.5 斜入射导纳图 141 {|e7^_ ke 7.6 对称周期 141 -1R7 8(1 7.7 参考文献 142 HaOSFltf# 8 典型的镀膜实例 143 (k%r_O 6 8.1 单层抗反射薄膜 145 X0KUnxw 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 EV~?]Kt~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 I*(7(>zgyv 8.4 W-膜层 148 c>C!vAg 8.5 V-膜层 149 \/r]Ra 8.6 V-膜层高折射基底 150 @_h=,g#@ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 <*p 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 `oE.$~' 8.9 四层抗反射薄膜 153 iM]&ryGB |