5$D "uAp<V ABX%oZ7[|o 内容简介 A>1$?A8Q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
kzDN(_<1 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
EN2SI+ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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<\u3p3"[4
U`mX
f#D "+-
'o+ 目录 Mzp<s<BX Preface 1
q!eE~O;A 内容简介 2
[eDrjf3m 目录 i
7RL J 1 引言 1
JfIXv 2 光学薄膜基础 2
:~vodh 2.1 一般规则 2
v{VF>qEP 2.2 正交入射规则 3
<f>w"r 2.3 斜入射规则 6
VP~2F
E 2.4 精确计算 7
6FA+qYSV 2.5 相干性 8
>|E]??v 2.6 参考文献 10
QLWnP- 3 Essential Macleod的快速预览 10
'bi;Y1: 4 Essential Macleod的特点 32
f\]?, 4.1 容量和局限性 33
:*M?RL@j 4.2 程序在哪里? 33
J**(7d 4.3 数据文件 35
i}sAF/ 4.4 设计规则 35
fRQ,Z 4.5 材料数据库和
资料库 37
ERpAV-Zf 4.5.1材料损失 38
,PTM'O@aU# 4.5.1材料数据库和导入材料 39
s)a-ky( 4.5.2 材料库 41
Fo.Y6/} 4.5.3导出材料数据 43
%N*[{j= ^ 4.6 常用单位 43
wtY)(ka 4.7 插值和外推法 46
o utJ/~9; 4.8 材料数据的平滑 50
$nO~A7 4.9 更多光学常数模型 54
N3n] 4.10 文档的一般编辑规则 55
\yr9j$ 4.11 撤销和重做 56
c>_ti+ 4.12 设计文档 57
p"ZvA^d\ 4.10.1 公式 58
ES~b f 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
f+cb83}n] 4.10.3 沉积密度 59
9|1msg4 4.10.4 平行和楔形介质 60
P}v
;d] 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
.gx^L=O: 4.10.4 性能 61
V]F D'XAl 4.10.5 保存设计和性能 64
79v +ze 4.10.6 默认设计 64
_ ;j1g% 4.11 图表 64
WigtTAh4 4.11.1 合并曲线图 67
_O`p (6 4.11.2 自适应绘制 68
R| ?Q&F_$ 4.11.3 动态绘图 68
$0_K&_5w~ 4.11.4 3D绘图 69
MJXnAIG?2 4.12 导入和导出 73
>Ku4Il+36 4.12.1 剪贴板 73
!kovrvM6F 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
,|A^ <R` 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
Z<nNk.G 4.13 背景 77
J:@gmo`M;V 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
msBoInhI 4.15 生成Rugate 84
<fvu)
f
4.16 参考文献 91
4z0gyCAC A 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
qVC+q8 5.1 Jobs 92
\f9WpAY 5.2 创建一个新Job(工作) 93
FS1\`#Bm) 5.3 输入材料 94
r%U6,7d=) 5.4 设计数据文件夹 95
7;EDU 5.5 默认设计 95
Nk7y2[ 6 细化和合成 97
u#76w74 6.1 优化介绍 97
~
WWhCRq 6.2 细化 (Refinement) 98
6!\V| 6.3 合成 (Synthesis) 100
lVvcrU 6.4 目标和评价函数 101
e
)0 ]WJ 6.4.1 目标输入 102
0/R;g~q@ 6.4.2 目标 103
CvU$Fsb 6.4.3 特殊的评价函数 104
C+NN.5No 6.5 层锁定和连接 104
W=+n|1 6.6 细化技术 104
J@5iD 6.6.1 单纯形 105
?Q"andf 6.6.1.1 单纯形
参数 106
rN}pi@ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
d{S'6*`D 6.6.2.1 Optimac参数 108
duG!QS: 6.6.3 模拟退火算法 109
(47?lw
& 6.6.3.1
模拟退火参数 109
dc)%5fV\ 6.6.4 共轭梯度 111
EF)BezG5y 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
w+)${|N?
6.6.5 拟牛顿法 112
z!g$#hmL> 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
wA5Iz{uQO 6.6.6 针合成 113
fd'kv 6.6.6.1 针合成参数 114
vbid>$% 6.6.7 差分进化 114
cW%)C.M 6.6.8非局部细化 115
HMd?` 6.6.8.1非局部细化参数 115
[MIgQ.n 6.7 我应该使用哪种技术? 116
2IB{FO/ 6.7.1 细化 116
,Cr%2Wg- 6.7.2 合成 117
; J W]b] 6.8 参考文献 117
]o] VS 7 导纳图及其他工具 118
/8l-@P.o 7.1 简介 118
jEBn"]\D 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
: s
* 7.2.1 四分之一
波长规则 119
ED` 1)1< 7.2.2 导纳图 120
=8]`-( 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
c(Dp`f, 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
DT]4C!dh 7.5 斜入射导纳图 141
vMz|'-rm$ 7.6 对称周期 141
A%D'Z85
- 7.7 参考文献 142
wpZ"B+oK! 8 典型的镀膜实例 143
?}?"m:= 8.1 单层抗反射薄膜 145
-}6ew@GE 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
_[6sr7H! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
kkl'D!z2g 8.4 W-膜层 148
&wQ;J)13 8.5 V-膜层 149
fu!T4{2 8.6 V-膜层高折射基底 150
rUKg<]&@ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
|+Wn5iT 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
HYdM1s6vo 8.9 四层抗反射薄膜 153
V(`]hH0;T 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
l#[Z$+!09 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
ys`-QlkB 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
XUP{]w`.Z 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
}c8nn 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
do8[wej<: 8.15十五层宽带抗反射膜 159
_mm(W=KiL 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
V|YQhd0kv 8.17 1/4波长堆栈 162
[5&k{*}} 8.18 陷波滤波器 163
nD5wN~[J 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
ZUI6VM 8.20 褶皱 165
eA&