q5G`N>"V H.]p\UY9 内容简介 @*&`1 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
9 Eqv^0u 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
FG5YZrONx 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
>uP1k.z'I 讯技科技股份有限公司
1deK}5'
J;S Z"I' XES$V15 目录 /:ju/~R} Preface 1
9|l6.$Me/ 内容简介 2
RH^;M-' 目录 i
08_<G`r 1 引言 1
TdL/tg! 2 光学薄膜基础 2
nU23D@l 2.1 一般规则 2
0
} |21YED 2.2 正交入射规则 3
? ]H'egG6 2.3 斜入射规则 6
!N74y%=M 2.4 精确计算 7
z0 J:"M 2.5 相干性 8
30{+gYA 2.6 参考文献 10
bo
&QKK 3 Essential Macleod的快速预览 10
T!1Np'12zF 4 Essential Macleod的特点 32
nn8uFISb 4.1 容量和局限性 33
G7k.YtW 4.2 程序在哪里? 33
}+fBJ$ 4.3 数据文件 35
$xK(bc'{ 4.4 设计规则 35
F#Bi*YY 4.5 材料数据库和
资料库 37
+:3p*x%1H 4.5.1材料损失 38
SN5Z@kK 4.5.1材料数据库和导入材料 39
JpZ3T~Wrf 4.5.2 材料库 41
g+QNIM> 4.5.3导出材料数据 43
:MILOwF 4.6 常用单位 43
K_}81|= 4.7 插值和外推法 46
iUk#0 I 4.8 材料数据的平滑 50
:auq#$B 4.9 更多光学常数模型 54
Q5c13g2(c 4.10 文档的一般编辑规则 55
?MD\\gN 4.11 撤销和重做 56
h{CMPJjD 4.12 设计文档 57
vFK!LeF% 4.10.1 公式 58
ar:qCq$\ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
i|N(=Z= 4.10.3 沉积密度 59
W:1GY#Pe 4.10.4 平行和楔形介质 60
t<yOTVah 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
xz){RkVzP 4.10.4 性能 61
r1zuc:W1 4.10.5 保存设计和性能 64
/H$/s=YU\U 4.10.6 默认设计 64
3gz4c1 s^: 4.11 图表 64
6D29s]h2 4.11.1 合并曲线图 67
ee*E:Ltz\ 4.11.2 自适应绘制 68
`_E@cZ4 4.11.3 动态绘图 68
$`txU5#vs 4.11.4 3D绘图 69
7Yly^ 4.12 导入和导出 73
(@cZmU, 4.12.1 剪贴板 73
84y#L[ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
K~
VUD( 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
=~ ="# 4.13 背景 77
to3D#9Ep 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
iYz!:TxP 4.15 生成Rugate 84
YvPs 4.16 参考文献 91
O^4Ko} 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
F2CoXe7 5.1 Jobs 92
AjMx \'(C 5.2 创建一个新Job(工作) 93
*!u
a? 5.3 输入材料 94
?&"!, 5.4 设计数据文件夹 95
?OdJt 5.5 默认设计 95
Zl7m:b2M 6 细化和合成 97
QE~#eo 6.1 优化介绍 97
YojYb]y+j 6.2 细化 (Refinement) 98
BCw0kq@ 6.3 合成 (Synthesis) 100
xyRZ
v]K1 6.4 目标和评价函数 101
]F1ZeAh5 6.4.1 目标输入 102
]y<<zQ_fhY 6.4.2 目标 103
Hh0a\%! 6.4.3 特殊的评价函数 104
MUqV$#4@I 6.5 层锁定和连接 104
Q~G>=J9 6.6 细化技术 104
bId@V[9 6.6.1 单纯形 105
Xw<N nvz6 6.6.1.1 单纯形
参数 106
Oz7WtN 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
l;'c6o0e 6.6.2.1 Optimac参数 108
5mF"nY&lI 6.6.3 模拟退火算法 109
16n8[U! 6.6.3.1
模拟退火参数 109
VD- 2{em 6.6.4 共轭梯度 111
NRZ>03w 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
\F8*HPM=* 6.6.5 拟牛顿法 112
/WE1afe_R 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
P]||Xbbp 6.6.6 针合成 113
Pdw[#X<[` 6.6.6.1 针合成参数 114
.+Fh,bNYK 6.6.7 差分进化 114
x@480r 6.6.8非局部细化 115
pTk1iGfB 6.6.8.1非局部细化参数 115
"+:~#&r 6.7 我应该使用哪种技术? 116
m@^!?/as 6.7.1 细化 116
gv,8Wo 6.7.2 合成 117
BjIKs~CT 6.8 参考文献 117
-%t2_g, 7 导纳图及其他工具 118
K\`>'C2_V 7.1 简介 118
E0a &1j 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
[_?dp aTt 7.2.1 四分之一
波长规则 119
"8h7"WR 7.2.2 导纳图 120
U>s$}Y:+Z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
nnPY8pdjSD 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Ff@Cs0R 7.5 斜入射导纳图 141
?\NWKp 7.6 对称周期 141
sZ9VXnz24 7.7 参考文献 142
QL_9a,R'r 8 典型的镀膜实例 143
cN\Fgbt 8.1 单层抗反射薄膜 145
=g+Rk+ jn 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
l gzA) ( 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
+nT(>RJR 8.4 W-膜层 148
1O,<JrE+- 8.5 V-膜层 149
wA;Cj 8.6 V-膜层高折射基底 150
zVU{jmS 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
jjrhl 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
!*@sX7H 8.9 四层抗反射薄膜 153
2[qlEtvQ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
.y~vn[q N 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
Uc?#E $X 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
8Cw+<A* 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
}L.&@P< 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
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