在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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ySHpN>U )JY#8,{w 建模任务 `jec|i@oO .|@2Uf
is=x6G*r 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
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光栅结构 ErFt5%FN.O eN`G2eE X9?0`6Li C3~O6<,Jh 通过参数运行计算不同位置的强度
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