在传统的Talbot光刻中,在光敏层中仅使用一个
图像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通过傅立叶模态法(FMM,也称为RCWA)在
VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像,柱状图位于主像面上,孔状图位于次像面上。
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hIFfvUl mH9_HK.C 建模任务 L)3JTNiB HB9|AQ4K
J'@`+veE 结构和
材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
en-HX3' cc:,,T/i 某一位置的Talbot图样 TSUT3'&~p
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LIfYpn6 kGW4kuh)/q 某一位置的Talbot图样 UJk/Lxv
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|WsB0R 6HRr4NDcj 不同位置的Talbot图样 o$k9$H>Na
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DGO\&^GT^ siD/`T& 不同位置的Talbot图样 Kd;)E 9Ti
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XG01g3 tlcNGPa 沿Z轴的强度 #9(L/)^
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.a7!*I#g abkt&981K+ 走进VirtualLab Fusion HD153M,
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/Bp5^(s G }U'?p VirtualLab Fusion的工作流程 E{xcu9 KLCd`vr.xf 构建
光栅结构 l1eF&wNC U flS` UzT"Rb:e 6Ej.X)~'K 通过参数运行计算不同位置的强度
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