主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模
干涉耦合器，主要步骤如下：
cv1L!Ce, • 定义MMI耦合器的
材料；
H:Le^WS • 定义布局设定；
c:T P7"vG • 创建一个MMI耦合器；
w!M ^p&T7 • 插入输入面；
C" WZsF^3 • 运行
模拟；
Yw
`VL)v(y • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。
n\Nl2u& m np(<Ap r 1. 定义MMI耦合器的材料 [X]o ` 为了定义MMI耦合器的材料，需要进行如下操作：
#1k,t 1) 通过File-New打开“初始性能对话框（Initial Properties）“
T]`"
Xl8 图1.初始性能对话框
v_ h{_b 8 j=4>In?x 2) 点击图1中的“轮廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“轮廓设计窗口（Profile Designer）”
`6su_8Hno 图2.轮廓设计窗口
;wZ.p"T9^ mD3#$E!A1 3) 右键单击图2中材料（Materials）标签下的“电介质（Dielectric）“，选择New以激活电介质材料创建窗口
LPF?\mf ^4
`SrVMb( 图3.电介质材料创建窗口
WH*&MIjAr/ !vw0Y,F& 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料：
Nx'j+>bz>y − Name : Guide
iL<O|' be − Refractive Index (Re) : 3.3
zZ-*/THB@R − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
^lj>v}4fkW 图4.创建Guide材料
cB^lSmu5 ^` THV 5) 重复步骤3）和4），创建第二种电解质材料：
*1Q?~ − Name : Cladding
jT',+ − Refractive Index (Re) : 3.27
va<pHSX&I@ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
db|$7 ]!w 图5.左图为创建Cladding材料，右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 . +sIjd
$-73}[UA 4 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1，进入通道编辑窗口，构建通道：
g;T`~
− Name ： Guide_Channel
9"TPDU7" − 2D profile definition: Guide
}$jIvb,3? − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口，关闭Profile Designer窗口
C.O-iBVe# 图6.构建通道
Vv]mME@ 2. 定义布局设定 _nUuiB> 为了定义布局设定，需要在“初始性能对话框（Initial Properties）”窗口进行以下操作：
C 4,W[L]4" 1) 点击“默认波导（Default Waveguide）”标签
}dCnFZ{K3 − Width：2.8
PR0]:t)E 注意：所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度
wvD|c%
− Profile：Channel-Guide
KV 2X[1 XT)@)c7j 
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
%BJ V$tO 2) 切换到“晶圆尺寸（Wafer Dimension）”标签：
=zdRoXBY[b − Length：5300− Width：60
#"l=Lv 
L `6`NYR 图8.设置晶圆尺寸
3c)xNXq m 3) 切换到“2D晶圆属性（2D Wafer Properties）”标签：− Material：Cladding
lOZZ- − 点击OK以激活布局窗口
hI $an%Y( 
图9.晶圆材料设置
~<-i7u M 4) 布局窗口
oID, PB*9 
3f0RMk$pH 图10.默认情况下布局窗口显示
3 }XS| Y 5) 调整显示比率，以便更好进行波导
结构布局设置：− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口
x\WKsc − Display ratio : Z=40,点击OK，如图11所示− 调整缩放比率为0.6 ，最终布局显示如图12所示
'0+-Hit? 
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ewcD{bt 图11.调整Z方向和X方向的显示比率
X(~NpL R 
8l6R.l
图12.最终布局显示
<?+ \\Z!7 3. 创建一个MMI耦合器 为了构建一个MMI耦合器，需要进入如下操作：
8Pq|jK " 1) 在“绘图（Draw）”菜单下选择“线性波导（Linear Waveguide）”或者在波导栏 下选择线性波导2) 当鼠标指针变为十字叉时，点击布局窗口左侧，并向右侧拖拽波导后松开鼠标，以生成第一个线性波导
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Dcq^C LPY 图13 .绘制第一个线性波动
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