主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模
干涉耦合器,主要步骤如下:
9mnON~j5 • 定义MMI耦合器的
材料;
L8G4K) • 定义布局设定;
;H=6u • 创建一个MMI耦合器;
xr/k.Fz • 插入输入面;
_"bx#B* • 运行
模拟;
s7e'9Bx • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。
kMo)4Xp 5Z[D(z 1. 定义MMI耦合器的材料 B<R-|-# 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作:
}rE|\p> 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“
H6O\U2+ 图1.初始性能对话框
vy#(|[pL{ i/~J0qQ 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)”
kUt9'|9! 图2.轮廓设计窗口
0o]K6b #dft-23 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口
rA`\we) "Pc,+>vh 图3.电介质材料创建窗口
~c^-DAgB agYKaM1N 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料:
z!+<m< − Name : Guide
!D3}5A1, − Refractive Index (Re) : 3.3
"!tB";n − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
b{rmxtx 图4.创建Guide材料
_D9=-^ 3(:mRb} 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料:
+ LwoBn>6 − Name : Cladding
YiTp-@$} − Refractive Index (Re) : 3.27
_iu|*h1y − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
WGmCQE[/c 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 vt
N5{C
qM0MSwvC= 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道:
yLx.*I^6 − Name : Guide_Channel
deoM~r9s − 2D profile definition: Guide
1Q5<6*QL" − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口
zmFFBf"< 图6.构建通道
k%g xY% 0 2. 定义布局设定 O[y`'z;C 为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作:
j,xPN=+hT 1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签
9pcf jx.. − Width:2.8
".%LBs~$ 注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度
=]a@)6y − Profile:Channel-Guide
fn OkH =!^iiHF 
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
3ms/v:\ 2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签:
LrMFzd}_O − Length:5300− Width:60
$:[BB,$
R3n&o%$* 图8.设置晶圆尺寸
4C%>/*%8> 3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签:− Material:Cladding
k~f+L O − 点击OK以激活布局窗口
#sU~fq 
图9.晶圆材料设置
S I7B6c 4) 布局窗口
:XSc#H4
es[5B* 5 图10.默认情况下布局窗口显示
zD^f%p ["# 5) 调整显示比率,以便更好进行波导
结构布局设置:− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口
N[bN"'U/1 − Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示
dyzwJ70K
OLNn3
J 图11.调整Z方向和X方向的显示比率
/K) b0QX
<IyLLQ+v 图12.最终布局显示
^-GX&ODa 3. 创建一个MMI耦合器 为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作:
Qz+d[%Q}x 1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导
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id+m[']+ 图13 .绘制第一个线性波动
df6Ν4L M/a/H=J =t$mbI