主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模
干涉耦合器,主要步骤如下:
<=D\Ckmb • 定义MMI耦合器的
材料;
E26 zw9d • 定义布局设定;
H40~i=. • 创建一个MMI耦合器;
)\bA'LuFy • 插入输入面;
#]iSh(|8 • 运行
模拟;
?J<V-,i • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。
YjTRz.e{[7 )e$}sw{t 1. 定义MMI耦合器的材料 FG^Jh5 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作:
YQ&Ww|xe 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“
Vg6/ 1I 图1.初始性能对话框
\Tc<27- u]W$'MyY 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)”
Eu4-=2!4 图2.轮廓设计窗口
Lad8C xb2xl.2x! 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口
{!lC$ SlJ ,co~@a@9 图3.电介质材料创建窗口
UC!?. pQGlg[i2/ 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料:
zT\nj&7 − Name : Guide
}, < dGmkx − Refractive Index (Re) : 3.3
fL #e4 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
5d7AE^SHsH 图4.创建Guide材料
7wivu*0 ^ucmScl 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料:
|4J ;s7us − Name : Cladding
Z#O )0ou − Refractive Index (Re) : 3.27
H+ P&}
3 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口
8QYP\7}o 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 m44"qp
&%@b;)]J 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道:
^/0c`JG!x − Name : Guide_Channel
4@iMGYR9!s − 2D profile definition: Guide
4O TuX! − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口
<6
HrHw_ 图6.构建通道
D#=$? {w 2. 定义布局设定 9;\a|8O 为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作:
DLigpid 1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签
H2ZRUFu − Width:2.8
|XDbf3^6 注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度
Bb,l.w − Profile:Channel-Guide
7s2 l 3 <}\!FuC 
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
6aw1 2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签:
FZt a − Length:5300− Width:60
w$XqxI/&
-`I&hzl6E 图8.设置晶圆尺寸
o9<)rUy 3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签:− Material:Cladding
_~l*p"PL< − 点击OK以激活布局窗口
5f~49(v] 
图9.晶圆材料设置
MO_-7,.y 4) 布局窗口
c#ahFpsnlw
'n>v}__&| 图10.默认情况下布局窗口显示
,ln=kj 5) 调整显示比率,以便更好进行波导
结构布局设置:− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口
c'wxCqnE
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示
8|z@"b l)
TFQX}kr] 图11.调整Z方向和X方向的显示比率
\>DMN #
^&!SnM 图12.最终布局显示
K P1;u #v 3. 创建一个MMI耦合器 为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作:
L@|xpq 1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导
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>
[%ITqA$ 图13 .绘制第一个线性波动
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