[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 HC}C_Q5c91  
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场景 '0?E|B]Cp%  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 mw%_yDZ{  
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系统构建块 8=Ht+Br  
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组件求解器 {1ceF  
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几何光学仿真 |-<L :%  
    通过光线追迹 8tk`1E8!j  

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结果：光线追迹 C I0^eaFs  
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快速物理光学仿真 0:p#%Nvg  
    通过场追迹 R~([  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6Rj X  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Qa+gtGtJ  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 C~*m&,@TT^  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -D(!B56_  
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总结 P8f-&(  
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