[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 g%C!)UbT  
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场景 S8=Am7D]1  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 ]JGh[B1gh  
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系统构建块 Th!.=S{Y5  
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组件求解器 ^pI&f{q  
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系统构建块 gK&MdF*  
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总结 Z`_`^ \"  
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几何光学仿真 BIu%A]e"  
    通过光线追迹 It5U=PU  
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结果：光线追迹 D)kh"cK*1  
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快速物理光学仿真 ">{Ruv}$  
    通过场追迹 a'NxsByG]s  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \>B$x@-wg  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 qcNu9Ih  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |igr3p5Fw  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 %i!=.7o.  
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