[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 piFQ
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场景 k0IU~y%  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 Madaxx  
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组件求解器 4"{wga~%/  
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几何光学仿真 2oG|l!C  
    通过光线追迹 XE*bRTEw  
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结果：光线追迹 l5ds`uR#  
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快速物理光学仿真 G9inNz*Cx  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ONiI:Z>%  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9/(c cj  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +|YZEC  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ]GPJ(+5  
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总结 X\2hKUkT  

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