[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 b`W2^/D  
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场景 yN'<iTh  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 \d"uR@$3mG  
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系统构建块 rE&`G[(b  
QU#u5sX A  
b I%Sq+"}  
A`5/u"]*D  
组件求解器 '7Ad:em  
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WxLmzSz{xD  
     vb&1 S  
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     Z(|@C(IL0\  
系统构建块 N7wKaezE  
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总结 8C[W;&Y=  
H3}eFl=i2  
u{asKUce\  
     NcuZw?  
几何光学仿真 +i\ +bR  
    通过光线追迹 lc:dKGF6  
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结果：光线追迹 I^u$H&  
We8n20wf<  
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L~Hl?bK  
快速物理光学仿真 (Yv)%2  
    通过场追迹 Gz_[|,i  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 x;F^7c1  
j;BMuLTm1  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 F0D7+-9[  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <[oPh(!V  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 doX8Tq   
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总结 76} a  
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