[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 '=V1'I*  

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场景 @{ CP18~:  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 6j6P&[  
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系统构建块 FdE9k\E#/)  
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组件求解器 0ZJN<AzbA  
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几何光学仿真 >YP]IQ  
    通过光线追迹 X0zE-h6P  
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快速物理光学仿真 -E>se8%"  
    通过场追迹 pgU4>tyD  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4j h4XdH  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 vy+9Q5@W  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /@\3#2;  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 vDAv/l9  
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