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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 x!7r7|iV  
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    场景 |UB)q5I  
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    ^ cE{Uv  
    S}cR+d1}h  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 dkY JO!  
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    系统构建块 y4r?M8]"r  
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    22;B:  
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    组件求解器 ;Qi!~VsP;  
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    _q}Cnp5  
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    系统构建块 )wXE\$  
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    <lNNT6[/r  
    总结 C<(qk_  
    {p$@)b  
    fmJK+  
         w{u,YM(Q  
    几何光学仿真 `.dwG3R  
        通过光线追迹 kr@!j@j$  
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    结果:光线追迹 FFcIOn  
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    5 UOqS#"0  
    )v*k\:Hw  
    快速物理光学仿真 IOF!Ra:w  
        通过场追迹 8 R7w$3pp\  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ` AD}6O+x  
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    /Oi(5?Jn  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~wF3$H.@;  
    D(TG)X?  
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    HG< z,gE 2  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 v=+3AW-|v  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $Ff6nc=  
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    总结 Z!Z{Gm3  
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