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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
    u+9)B 6O1  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Z,-J tl  
    4d_Az'7`4  
    .?5~zet#;  
    场景 33ZHrZ  
    ;Kh[6{W  
    g)ofAG2  
    @X2zIFm  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 -k  }LW4  
    l1.eAs5U  
    系统构建块 Z6zLL   
    bZ#KfR  
    ]5Q)mWF  
    4av  
    组件求解器 (Z0.H3  
    "!Nu A  
    J vl-=~  
         I* P xQ  
         T2A74>Nw  
         ac,<+y7A  
    系统构建块 r3Kx  
    )h]tKYx  
    sZwa#CQKq  
    i)/#u+Y1P  
    总结 ;Za^).=  
    L*P*^I^1  
    <'j ygZ(  
         gk}.L E  
    几何光学仿真 [U$`nnp  
        通过光线追迹 F ~e}=Nb  
    pf#R]  
    结果:光线追迹 f*EDSJu\  
    H? %I((+  
    W6)XMl}n  
    +O1=Ao  
    快速物理光学仿真 uG/b Cb+V  
        通过场追迹 DG=_E\"#  
    ti<;>P[4  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 % C)|fDwN  
    { )4@rM  
    rW)}$|-Z  
    F)50 6  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 CHdYY7\{  
    /GA-1cS_(  
    :2lM7|@/  
    QvzE:]pyi  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {\ VmNnw  
    9S?b &]  
    aw3rTT(  
         m~@Lt~LZs  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0a+U >S#  
    [3] h(D  
    +p-S36K~,7  
    HmV JkkksJ  
    总结 08$l=  
    rY"EW"y  
    ?aZ\D g{  
      
     
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