[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 hU`wVy  
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场景 "!Uqcay-  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 o<<xY<  
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系统构建块 !V"<U2  
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组件求解器 T&%ux=Jt  
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总结 AvxfI"sp  
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几何光学仿真 %MrWeYd1  
    通过光线追迹 mz@T  
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结果：光线追迹 W=#:.Xj[  
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快速物理光学仿真 .q%WuQw  
    通过场追迹 PJ]];MQ  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  Fy`(BF\  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 eZ|%<Wpu  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3pv4B:0  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 G]+&!4  
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总结 Zb1<:[  
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