[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4bV&U=  
U?vG?{A  
ZE+VLV v  
场景 ^FaBaDcnl  
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@'go?E)f  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 YVcFCl  
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系统构建块 @FC|1=+  
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*V@>E2@  
组件求解器 [1OX:O|  
R07 7eX  
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     azEN_oUV  
     >_R,^iH"  
     [^oTC;  
系统构建块 cV=0)'&<`_  
FU;b8{Y  
SSoD}N  
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总结 Y9YE:s  
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     BZ2frG\0&I  
几何光学仿真 ^oykimYI-  
    通过光线追迹 w(>mP9Cb  
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结果：光线追迹 A6ar@$MZ  
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dm;C @.ML  
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快速物理光学仿真 BWtGeaW/sr  
    通过场追迹 A*&
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 x{
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 8eAc 5by  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 G7|CwzMg  
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总结 \A~r~  
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