[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 L_jwM^8  
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场景 Y}"|J ~  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 <W vuW6  
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系统构建块 <27B*C M  
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组件求解器 ,u(g#T  
<P( K,L?r  
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系统构建块 ZzI^*Nyg  
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总结 &}w,bG$  
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几何光学仿真 pZGso  
    通过光线追迹 8pDJz_F!{  
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结果：光线追迹 )TyL3Z\>(  
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快速物理光学仿真 e7/J:n$  
    通过场追迹 jRB:o?S  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 MH"c=mL:  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 V}9wx%v  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 YQ37P?u@  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 d-N<VVcy\  
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总结 ^n]tf9{I  
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