[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 IS }U2d,W  
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场景 _."X# }W  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 o(Ro/U(Wu  
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组件求解器 %'[ pucEF  
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总结 8]0?mV8iOE  
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几何光学仿真 I}7=\S/@  
    通过光线追迹 d0@czNWIC  
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结果：光线追迹 tM{U6k  
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快速物理光学仿真 l j*J|%~  
    通过场追迹 >dqeGM7Np>  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 U})Z4>[bvt  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9]TvLh3  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 H(Q|qckj  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $C !Mk  
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总结 L]HYk}oD.  
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