[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

$_bhZnYp7  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 <K6:"  
Id_?  
h%2;B;p]  
场景 (7v]bqfw  
8v eG^o  
WX2:c,%:  
HfQZRDH  
在VirtualLab Fusion中构建系统 d46PAA{'  
M}jF-z  
系统构建块 )83UF r4kP  
5X8GR5P  
1Z. D3@  
EMe3Xb `  
组件求解器 =1/d>kke  
):LgZ4h  
W Z!?O0.A  
     @jXdQY%{  
     HLD8W8  
     EL--?
<g  
系统构建块 8xAxn+;  
*<.{sx^Gk  
+>v3&[lGv  
gd#j{yI/Xf  
总结 ]VuB2L[D  
Nn`l+WA3  
w+,Kpb<x[0  
     7FQ&LF46  
几何光学仿真 UaW,#P
 
    通过光线追迹 >v sy P  
H8$l }pOz  
结果：光线追迹 >h!>Ll  
ef !@|2  
.mr&zq  
{Kbb4%P+h  
快速物理光学仿真 4Lg!54P8  
    通过场追迹 z' oK 0"  
8[PD`*w  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #pe#(xoI  
@ PboT1  
[9hslk  
D90.z"N\i9  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 c >8IM  
6\9 Zc-%  
zCpsGr  
s *8)|N  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 vS@;D7ep  
HITw{RPrW  
QsXy(w#F  
     -l:4I6-hi  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @Rc/^B:  
t\\oGH
 
QsO%m  
<6!;mb ;cX  
总结 26e.Hu  
CXAW>VdK_  
q
=,