[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >2g CM  
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场景 .PAkW2\#  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 -O_UpjR;  
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系统构建块 m1[QD26  
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组件求解器 KT g$^"\  
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系统构建块 Y?5yzD:  
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总结 U|Jo[4A  
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几何光学仿真 yav)mO~QU6  
    通过光线追迹 "=".ne  
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结果：光线追迹 Cir =(  
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快速物理光学仿真 fN4pG*D  
    通过场追迹 gP`!MlY@  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Hwc{%.%ae  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 v|/3Mi9mz  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 1`}fbX;"m)  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 1
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