[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 w$>u b@=  
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场景 3RUy,s  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 NYhB'C2  
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系统构建块 k<z)WNBf  
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组件求解器 .zf~.R;>  
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系统构建块 \-E^lIVF  
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S*pGMuui  
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总结 3s*mbk[J  
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+8T?{K  
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几何光学仿真 cF*TotU_m  
    通过光线追迹 `Uq#W+r,  
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结果：光线追迹 DmK57V4L^  
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快速物理光学仿真 m5n#v  
    通过场追迹 $L`d&$Vh  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 `K"L /I9  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 kb%;=t2  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 W<{h,j8  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 MBK^FR-K  
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总结 -12UN(&&Z  
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