[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

9&* 7+!  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Z)|~  
:Vxt2@p{  
hA ){>B<;  
场景 FXr^ 4B}  
[k$GUU,jY  
zn>lF  
KF'fg R  
在VirtualLab Fusion中构建系统 :\~>7VFg  
Z@euO~e~  
系统构建块 {Z/iYHv~#c  
f$>_>E  
QT+kCN  
qA '^b~  
组件求解器 (n kg  
~S('\h)1  
"9xJ},:-  
     2-'_Nwkl*  
     W%+02_/
)  
     m^oG9&";  
系统构建块 'yCVB&`b  
.h <=C&Yg  
vT#R>0@mi  
IrZjlnht  
总结 yr},pB  
Oey Ph9^V  
drAJ-ii  
     (.$$U3\  
几何光学仿真 Ei:m@}g  
    通过光线追迹 sFZdj0tQ4  
C5(XZscq  
结果：光线追迹 #Tc`W_-  
Vb?wwx7=  
|\Gkhi>;  
iY`[dsT  
快速物理光学仿真 o%Q9]=%!  
    通过场追迹 (A2ga):Pk  
@8c@H#H  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 p*W{*wZ_^  
)Jvo%Y  
O)^F z:  
#.u&2eyqQ  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 JQ ?8yl  
c k[uvH   
@8\0@[]  
+9LzDH  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 E<LH-_$  
&u9,|n]O9  
EQoK\.; G~  
     ;ZJ. 7t'  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ug}u>vQ>  
1WaQWZ:=  
i=^6nwD&  
E @r &K  
总结 '~yxu$aK  
}cUO+)!Y  
"uZ^zV`"