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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2022-09-26
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 uIh68UM  
    S7a05NO  
    )<YfLDgTs  
    场景 eLFxGZZ  
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    ./5LV)_`  
    .Nk'yow  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 9B3+$uP  
    HE!"3S2S&+  
    系统构建块 9!} ?}`'_  
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    =1#obB  
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    组件求解器 gpT~3c;l=  
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         l(A)Gd5>  
         KpX1GrIn3  
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    系统构建块 fM/~k>wl  
    Q Uy7Q$W  
    +-X 6 8`  
    S$N!Dj@e;  
    总结 !(gMr1}w  
    +L0Jje>Az  
    Q6PaT@gs  
         \^oI3K0`  
    几何光学仿真 w`YN#G  
        通过光线追迹 G22{',#r8  
    l"zwH  
    结果:光线追迹 /6 y9 u}  
    6L<Y   
    Talmc|h  
    >\?RYy,s$  
    快速物理光学仿真 I3qTSX-  
        通过场追迹 ;~,)6UX7  
    P9 w);jp;  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 j DkBe-`  
    [CG3&J  
    u']}Z% A9`  
    oNhCa>)/  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 I:6H65(&  
    KwHlpW*  
    "T@9#7Obu  
    8,@0~2fz#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 D_q"|D$SB  
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    _]v@Dq VP  
         QXu[<V  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 M3G ecjR  
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    +!Q*ie+q  
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    总结 +'/C(5y)0X  
    3a?|}zr4  
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