[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

Kc MzY  
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 %tCv-aX4  
lvs XL  
XE}gl&\  
场景 > H!sD\b  
;H_/o+  
<$~lFV  
M";qo6
  
在VirtualLab Fusion中构建系统 {VgE07r  
g{8
RPw]  
系统构建块 YG "Ta|@5  
51#*8u+L  
jjs/6sSRk  
^|]&"OaB Z  
组件求解器 qpjY &3SI  
@IT[-d  
U<Pjn)M~B  
     F^i3e31*t  
     +HK4sA2;  
     ( ;FxKm<P@  
系统构建块 Z*,e<zNQ  
K`4rUEf}V"  
p@<Q?  
w+M
/VsL  
总结 jh5QIZf=  

YB#fAU  
]%\,.&=hT  
     @KN+)qP  
几何光学仿真 ,
6)N.  
    通过光线追迹 pGbfdX
 
A~zn;  
结果：光线追迹 Y"Cf84E  
P}bIp+  
Y-
VDi.]W  
th?+
TNb^  
快速物理光学仿真 y7Po$
)8l  
    通过场追迹 L4By5)  
'\:4Ijp<"  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iHa?b2=)  
o+A7hBM^  
Z%t_1t  
OgQdyU  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |{(<A4W  
W5*ldXXk  
K$"#SZEi  
fPR_3qgQ  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 LUOjaX  
v88v
r  
lZFu|(  
     ]l,BUf-O  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 SSK}'LQ  
yx-{PjX  
!3Q0Ahf  
#M,&g{  
总结 N5Js.j>z  
/K=OsMl2b8  
Y:^hd809